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潔凈無(wú)塵車間通常都需頻繁擦拭,除了用水擦拭還會(huì)用消毒水、酒精、其它溶劑等擦拭,這些液體通常都有一定的化學(xué)品性,會(huì)使一些材料表面變色、脫落,這就要求裝修材料表面有一定的耐化學(xué)品性。若使用普通玻璃,應(yīng)采取必要的措施防止玻璃破碎后對(duì)原料、包裝材料及食品造成污染。潔凈無(wú)塵車間裝修的生物車間如手術(shù)室為了殺菌的需要,通常會(huì)安裝三氧O3發(fā)生器。O3(即臭氧)是一種強(qiáng)氧化氣體,會(huì)加速環(huán)境中物體特別是金屬的氧化銹蝕,也會(huì)使一般涂層表面由于氧化而褪色,變色。所以此類無(wú)塵車間要求其裝修材料有很好的耐氧化性,不會(huì)產(chǎn)生銹蝕。
不管是無(wú)塵車間還是其它工程,在所有的施工現(xiàn)場(chǎng)管理中安全應(yīng)放在首位,科瓦特工程部總結(jié)出以下10大注意點(diǎn)是無(wú)塵車間施工現(xiàn)場(chǎng)必須要注意的,但也不于以下10點(diǎn),歡迎大家補(bǔ)充說(shuō)明:
1、無(wú)塵車間施工應(yīng)對(duì)所有的出口設(shè)有安全防護(hù)措施,安裝防護(hù)欄,防護(hù)網(wǎng)和加蓋防護(hù)等措施
2、加強(qiáng)對(duì)安全網(wǎng)架設(shè)的規(guī)范化管理
3、無(wú)塵室凈化工程加強(qiáng)對(duì)“臨邊”危險(xiǎn)地帶安全防護(hù)的管理
4、加強(qiáng)對(duì)交叉施工作業(yè)的安全管理
5、無(wú)塵室凈化工程加強(qiáng)對(duì)高空金屬構(gòu)筑物的安全管理
6、加強(qiáng)對(duì)大型混凝土模板和高層腳手架的安全管理
7、加強(qiáng)對(duì)垂直運(yùn)輸設(shè)備的安全管理
8、無(wú)塵室凈化工程加強(qiáng)對(duì)施工安全用電的管理
9、加強(qiáng)對(duì)季節(jié)性施工的安全管理
10、無(wú)塵室凈化工程加強(qiáng)對(duì)易1燃易1爆物品的安全管理
無(wú)塵車間要控制相對(duì)濕度,以下幾個(gè)影響因素也是關(guān)鍵:
金屬腐蝕:很多化學(xué)反應(yīng)的速度,包括腐蝕過(guò)程,將隨著相對(duì)濕度的增1高而加快。所有暴露在無(wú)塵車間、潔凈室周圍空氣中的表面都很快地被覆蓋上至少一層單分子層的水。三、無(wú)塵車間的地上裝置,地上通常選用環(huán)氧自流坪地坪或高1檔耐磨塑料地板,如有防靜電需求的,可選用防靜電地板。當(dāng)這些表面是由可以與水反應(yīng)的薄金屬涂層組成時(shí),高濕度可以使反應(yīng)加速。幸運(yùn)的是,一些金屬,例如鋁,可以與水形成一層保護(hù)型的氧化物,并阻止進(jìn)一步的氧化反應(yīng);但另一種情況是,例如氧化銅,是不具有保護(hù)能力的,因此,在高濕度的環(huán)境中,銅制表面更容易受到腐蝕。
水汽冷凝:在相對(duì)濕度較高的環(huán)境中,濃縮水形的毛細(xì)管力在顆粒和表面之間形成了連接鍵,可以增加顆粒與硅質(zhì)表面的黏附力。“千級(jí)”、“百級(jí)”要求更高,也就是經(jīng)凈化后,允許殘留的粒子數(shù)更少(具體可以參看1相關(guān)規(guī)定)。這種效應(yīng)——?jiǎng)P爾文濃縮——當(dāng)相對(duì)濕度小于50%時(shí)并不重要,但當(dāng)相對(duì)濕度在70%左右時(shí),就成為顆粒之間黏附的主要力量。 所以必須要對(duì)無(wú)塵車間相對(duì)濕度控制。
光刻的退化:這在半導(dǎo)體無(wú)塵車間、潔凈室中迫切需要適當(dāng)控制的是光刻膠的敏感性。由于光刻膠對(duì)相對(duì)濕度極為敏感的特性,它對(duì)相對(duì)濕度的控制范圍的要求是嚴(yán)格的水準(zhǔn)。3、準(zhǔn)備好所需的清潔工具及產(chǎn)品無(wú)塵車間所需的清潔工具及產(chǎn)品,一般包括有:潔凈室專用吸塵器、潔凈紙、無(wú)塵布、去離子水、酒精、水桶、拖把、拖把專用桶等。實(shí)際應(yīng)用上,相對(duì)濕度和溫度對(duì)于光刻膠穩(wěn)定性以及精1確的尺寸控制都是很關(guān)鍵的。甚至是在恒溫條件下,光刻膠的粘性將隨著相對(duì)濕度的上升而迅速下降。當(dāng)然,改變粘性,就會(huì)改變由固定組分涂層形成的保護(hù)膜的厚度。
還有就是吸水性,在高的相對(duì)濕度環(huán)境下,由于水分的吸收,使烘烤循環(huán)后光刻膠膨脹加重。光刻膠附著力同樣也可以受到較高的相對(duì)濕度的負(fù)1面影響;較低的相對(duì)濕度(約30%)使光刻膠附著更加容易,甚至不需要聚合改性劑,如六甲1基二硅氮烷(HMDS)。