此外，為了了解鍍層的組分和進(jìn)行鍍層厚度測(cè)試，也要有相關(guān)的退鍍工藝。特別是合金鍍層組分的分析、復(fù)合鍍層中復(fù)合材料的質(zhì)量百分比的確定等，都只能在將鍍層退除后，才能進(jìn)行定量的分析。因此，退鍍?cè)诠に囇芯亢蜏y(cè)試中是一項(xiàng)不可缺少的技術(shù)。基體材料或鍍層鑒別的需要  有時(shí)候在需要修復(fù)或一件產(chǎn)品時(shí)，對(duì)有些表面鍍覆有鍍層的工件缺少技術(shù)資料，無(wú)法確定表面鍍層，或雖然知道表面鍍層，但是又不知道基體采用的是什么材料。

2.內(nèi)電阻縱向分布的影響

2.1溶液電阻

溶液電阻的縱向分布狀態(tài)，使鍍鉻過(guò)程中產(chǎn)生的氫氣泡從內(nèi)不斷上溢，帶動(dòng)溶液由下而上地流動(dòng)，且不斷更新。這時(shí)上部溶液的質(zhì)量濃度低，氣泡數(shù)量多，從而使溶液電阻的縱向分布呈上大下小的不均勻狀態(tài)。

2.2極化電阻

由于鍍液中的氣泡數(shù)量呈上多下少的梯度狀態(tài)，越向上氣泡占據(jù)的空間越大，使得溶液在陰極上部的交換速率比下部的快。這種流動(dòng)速率的不均勻狀態(tài)，也就造成了極化電阻的縱向分布呈上小下大的梯度狀態(tài)。

2.3陽(yáng)極電阻

鍍鉻一般采用鋼絲鍍鉛陽(yáng)極。這種鋼芯陽(yáng)極的電阻所造成的電位降，使內(nèi)不同斷面上陰、陽(yáng)極之間的電壓不相同(如上部的電壓比下部的高)，形成自上而下的梯度狀態(tài)。這種狀態(tài)使得電流在陰極表面上的縱向分布不均勻。

3.三價(jià)鉻的影響

鍍鉻過(guò)程中，堿式鉻酸鉻薄膜在陰極表面不斷生成，而硫酸鉻離子不斷在陰極溶解堿式鉻酸鉻薄膜。成膜和溶解的過(guò)程在陰極表面上交替進(jìn)行，當(dāng)膜的溶解速率較慢時(shí)，氫氣析出較快;當(dāng)膜的溶解速率較快時(shí)，氫氣析出較慢。由此認(rèn)為：當(dāng)三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度較高時(shí)，溶液中硫酸鉻離子的數(shù)量增多，在陰極上加快了堿式鉻酸鉻薄膜的溶解，因而也就減緩了氫氣的析出?？赡苁怯捎谌齼r(jià)鉻氧化成六價(jià)鉻時(shí)需克服的阻力比氧氣析出時(shí)需克服的阻力小，所以當(dāng)三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度增加時(shí)，三價(jià)鉻氧化成六價(jià)鉻的反應(yīng)速率加快，相應(yīng)地抑制了氧氣的生成速率。