國(guó)外于60年前開(kāi)始生產(chǎn)稀土拋光粉，二十世紀(jì)90年代已形成各種標(biāo)準(zhǔn)化、系列化的產(chǎn)品達(dá)30多種規(guī)格牌號(hào)。

　　目前，國(guó)外的稀土拋光粉生產(chǎn)廠家主要有15家（年生產(chǎn)能力為200噸以上者）。其中，法國(guó)羅地亞公司年生產(chǎn)能力為2200多噸。是目前大的稀土拋光粉生產(chǎn)廠家。美國(guó)的拋光粉年產(chǎn)量能力達(dá)1500噸以上。

。日本生產(chǎn)稀土拋光粉的原料采用氟碳礦、粗氯化和氯化稀土三種，工藝上各不相同。日本稀土拋光粉的生產(chǎn)在燒結(jié)設(shè)備和技術(shù)上均具特色。1968年，我國(guó)在上海躍龍化工廠研制成功稀土拋光粉。

稀土拋光粉的粒度及粒度分布對(duì)拋光粉性能有重要影響。

　　對(duì)于一定組分和加工工藝的拋光粉，平均顆粒尺寸越大，則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多數(shù)情況下，顆粒尺寸約為4μm的拋光粉磨削速度。相反地，如果拋光粉顆粒平均粒度較小，則磨削量減少，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，標(biāo)準(zhǔn)拋光粉一般有較窄的粒度分布，太細(xì)和太粗的顆粒很少，無(wú)大顆粒的拋光粉能拋光出高質(zhì)量的表面，而細(xì)顆粒少的拋光粉能提高磨削速度。

以上原料中除種外，第2,3,4種均含輕稀土（w（REO）≈98%），且以CeO2為主，w（CeO2）為48%~50%.我國(guó)具有豐富的資源，據(jù)測(cè)算，其工業(yè)儲(chǔ)量約為1800萬(wàn)噸（以CeO2計(jì)），這為今后我國(guó)持續(xù)發(fā)展稀土拋光粉奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)，也是我國(guó)獨(dú)有的一大優(yōu)勢(shì)，并可促進(jìn)我國(guó)稀土工業(yè)繼續(xù)高速發(fā)展。

　　1.4主要生產(chǎn)工藝及設(shè)備

　　1.4.1高系稀土拋光粉的生產(chǎn)

　　以稀土混合物分離后的氧化為原料，以物理化學(xué)方法加工成硬度大，粒度均勻、細(xì)小，呈面心立方晶體的粉末產(chǎn)品。其主要工藝過(guò)程為：原料→高溫→煅燒→水淬→水力分級(jí)→過(guò)濾→烘干→系稀土拋光粉產(chǎn)品。

　中系稀土拋光粉，主要適用于光學(xué)儀器的中等精度中小球面鏡頭的高速拋光。該拋光粉與高粉比較，可使拋光粉的液體濃度降低11%,拋光速率提高35%,制品的光潔度可提高一級(jí)，拋光粉的使用壽命可提高30%.目前國(guó)內(nèi)使用這種拋光粉的用量尚少，有待于今后繼續(xù)開(kāi)發(fā)新用途。

　　低系稀土拋光粉，如771型適用于光學(xué)眼鏡片及金屬制品的高速拋光；797型和C-1型適用于電視機(jī)顯象管、眼鏡片和平板玻璃等的拋光；H-500型和877型適用于電視機(jī)顯象管的拋光。此外，其它拋光粉用于對(duì)光學(xué)儀器，攝像機(jī)和照像機(jī)鏡頭等的拋光，這類拋光粉國(guó)內(nèi)用量，約占國(guó)內(nèi)總用量85%以上。