ZF500有機蒸發(fā)鍍膜機

廣泛應用于高校材料、物理、化學、電子、能源等相關學科以及科研院所制備高質量功能薄膜、蒸鍍電極等，半導體、有機EL、OLED顯示研究與開發(fā)領域。

系統(tǒng)組成:

主要由真空室、蒸發(fā)源、樣品臺、 真空抽氣及測量、膜厚測試 、電控系統(tǒng)組成。

技術指標：

極限真空度4×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1.2×10-7PaL/S； 恢復真空時間：40分鐘可達6.0×10 Pa-4

真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm

樣品臺：尺寸為4英寸4平面樣品；

有機束源爐：數(shù)量：4支，標準型600度控溫；

樣品架：安裝加熱爐?；臏囟葟氖覝刂?00℃（硅片上表面的溫度，只需標定一次即可）

4套擋板系統(tǒng)：動密封手動控制；

樣品擋板（１套），磁力撥叉，

膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999? 

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鈣鈦礦鍍膜機的特點有哪些？

1、樣品位于真空室上方，蒸發(fā)源位于真空室下方，向上蒸發(fā)鍍膜，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。

2、設有烘烤加熱功能，可在鍍膜過程中加熱樣品，烘烤加熱溫度為≤180℃。

3、設有斷水、斷電連鎖保護報警裝置及防誤操作保護報警裝置。

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