鍍膜技術(shù)在信息存儲領(lǐng)域中的應用

薄膜材料作為信息記錄于存儲介質(zhì)，有其得天獨厚的優(yōu)勢：由于薄膜很薄可以忽略渦流損耗；磁化反轉(zhuǎn)極為迅速；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。

物理氣相沉積（PVD）是一種真空鍍膜工藝，許多人知道常用于提高切削刀具的性能。但北京丹普表面技術(shù)有限公司的真空鍍膜機設(shè)備可以提供陰極電弧PVD涂層服務可提供更硬，更潤滑的產(chǎn)品，與未涂層工具相比，可將工具壽命提高10倍。耐磨表面。 此外，制造商越來越多地使用PVD涂層來區(qū)分其設(shè)備的外觀與類似產(chǎn)品和/或增強其設(shè)備的性能，因為硬質(zhì)惰性涂層具有生物相容性，不會與骨骼發(fā)生反應，組織或體液。涂覆PVD涂層的的實例包括，鉆頭和針頭，以及用于各種裝置組件以及應用的“磨損”部件。鍍膜技術(shù)在信息存儲領(lǐng)域中的應用薄膜材料作為信息記錄于存儲介質(zhì)，有其得天獨厚的優(yōu)勢：由于薄膜很薄可以忽略渦流損耗。

蒸發(fā)式真空鍍膜機的工作原理：通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之知一。 蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子道以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)專源的蒸發(fā)速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。對于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的屬距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。簡言之，蒸發(fā)式真空鍍膜機的工作原理就是真空室內(nèi)利用電阻加熱法，把緊緊貼在電阻絲上面的金屬絲熔融汽化，汽化了的金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。蒸發(fā)式真空鍍膜機的工作原理：通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。

如何正確使用真空鍍膜設(shè)備。

機床的正常進行運行的情況下，啟動機器，要先打開水管，應始終注意提高工作水壓力。

同時離子轟擊和蒸發(fā)時，應特別注意高壓電線接頭，不能接觸，防止觸電。涂層中的電子槍，鋁的外鐘。建議用鉛玻璃觀察窗玻璃，應戴眼鏡觀察鉛玻璃，防止射線照射人體。多層介質(zhì)膜涂層的沉積應配備通風除塵設(shè)備，及時清除有害粉塵。