?真空鍍膜加工金屬真空鍍膜加工廠家

　真空鍍膜加工已有200年的歷史。在19世紀(jì)可以說(shuō)一直是處于探索和預(yù)研階段。探索者的艱辛在此期間得到充分體現(xiàn)。1805年, 開(kāi)始研究接觸角與表面能的關(guān)系(Young)。1817年, 透鏡上形成減反射膜(Fraunhofer)。1839年, 開(kāi)始研究電弧蒸發(fā)(Hare)。開(kāi)始研究真空濺射鍍膜(Grove；Pulker)。1857年, 在氮?dú)庵姓舭l(fā)金屬絲形成薄膜(Faraday；Conn)。 1874年, 報(bào)道制成等離子體聚合物(Dewilde；Thenard)。1877年,薄膜的真空濺射沉積研究成功(Wright)。1880年, 碳?xì)浠衔餁庀酂峤?Sawyer；Mann)。1887年, 薄膜的真空蒸發(fā)(坩堝) (Nahrwold；Pohl；Pringsheim)。開(kāi)始研制形成減反射膜的化學(xué)工藝。研究成功四氯化鎢的氫還原法(CVD)； 膜厚的光學(xué)干涉測(cè)量法(Wiener)。

真空鍍膜廠家 真空鍍膜加工鍍鋁怎樣鍍厚

由于真空鍍鋁薄膜上的鍍鋁層非常薄，因此不能用常規(guī)的測(cè)厚儀器檢測(cè)其厚度，常用的檢測(cè)方法如下：

①電阻法。電阻法是利用歐姆定律來(lái)對(duì)鍍鋁層的厚度進(jìn)行測(cè)量，根據(jù)歐姆定律： R=pXL/S 單位面積鍍鋁薄膜的電阻值越小，其鍍鋁層的厚度越厚，反之則越薄。

電阻法檢測(cè)鍍鋁層的厚度用表面電阻來(lái)表示，單位是Q，數(shù)值越大說(shuō)明鍍鋁層厚度越薄，一般真空鍍鋁薄膜的表面電阻值為1.0～2.5Q。

電鍍的含義：

  鍍層金屬或其他不溶性材料做陽(yáng)極，待鍍的金屬制品做陰極，鍍層金屬的陽(yáng)離子在金屬表面被還原形成鍍層。為排除其它陽(yáng)離子的干擾，且使鍍層均勻、牢固，需用含鍍層金屬陽(yáng)離子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽(yáng)離子的濃度不變。電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變基材表面性質(zhì)或尺寸.電鍍能增強(qiáng)金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗、提高導(dǎo)電性、潤(rùn)滑性、耐熱性、和表面美觀。

三：無(wú)環(huán)境污染：目前國(guó)家大力倡導(dǎo)生產(chǎn)環(huán)保，因?yàn)橐磺绣儗淤Y料都是在真空環(huán)境下經(jīng)過(guò)等離子體堆積在工件表面，沒(méi)有溶液污染，所以對(duì)環(huán)境的損害適當(dāng)小。

可是因?yàn)槿〉谜婵蘸偷入x子體的儀器設(shè)備精細(xì)貴重，并且堆積技術(shù)還把握在少量技術(shù)人員手中，沒(méi)有很多被推行，其出資和日常出產(chǎn)維護(hù)費(fèi)用貴重.可是跟著社會(huì)的不斷進(jìn)步，真空電鍍加工技術(shù)的優(yōu)勢(shì)會(huì)越來(lái)越明顯，在某些職業(yè)替代傳統(tǒng)的濕法電鍍是大勢(shì)所趨。