較早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量儀器鑲板，銘牌及傳統加工法難以加工之薄形工件等的加工；經過不斷改良和工藝設備發(fā)展，蝕刻更是不可或缺的技術。

曝光：指在攝影過程中進入鏡頭照射在感光元件上的光量，由光圈、快門、感光度的組合來控制。通常是指使感光紙或攝影膠片感光，攝影感光材料的感光。

可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量儀器鑲板，銘牌及傳統加工法難以加工之薄形工件等的加工；經過不斷改良和工藝設備發(fā)展，亦可以用于航空、機械、化學工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產品的加工，特別在半導體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術。1、蝕刻：利用蝕刻液與bai銅層反應，蝕去線路板上不需要du的銅，得到zhi所要求的線路。

2、曝光dao：經光源作用將原始底片上的圖像轉移到感光底板（即PCB）上。

3、顯影：通過堿液作用，將未發(fā)生光聚合反應之感光材料部分沖掉。

顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉變成可見的色粉圖zhi像的過程。 顯影包括正顯影和反轉顯影。 正顯影時，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。曝光時候主要考慮暗部bai的亮度確定du曝光，而暗zhi房顯影的時候是按照亮部dao的層次來控制顯影，這樣可以獲得理想的層次。文章到這里，大家都了解清楚了嗎？