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錦信騰環(huán)保跟您一起分享一下污水處理的內(nèi)容：

生活污水處理設(shè)備裝置基礎(chǔ)安裝首先：wsz系列設(shè)備如放置在地坪以上，只需預(yù)備一塊與設(shè)備外形一樣的混凝土地坪作為根底。根底承壓有必要大于4T/m2，也一起請(qǐng)求水平、平坦。如設(shè)備埋于地坪以下，根底標(biāo)高有必要小于或等于設(shè)備標(biāo)高并確保下雨不積水，根底通常是素混凝土(是不是配筋視當(dāng)?shù)氐刭|(zhì)狀況而定)。為防范設(shè)備上浮，根底應(yīng)預(yù)埋抗浮環(huán)。

污水處理工程軟化水處理再生液溫度 

軟化水處理樹(shù)脂一般均在常溫下再生。陰樹(shù)脂再生時(shí)，所用再生液的溫度和再生時(shí)間，對(duì)再生程度的影響要比陽(yáng)樹(shù)脂大。當(dāng)原水中Si02 <ΣA<10%，加熱堿液不經(jīng)濟(jì)Si02 <ΣA比值升高時(shí)，加熱堿液除硅效果明顯提高。陰離子交換樹(shù)脂提高再生液的溫度可以改善對(duì)硅酸的再生效果和縮短再生時(shí)間，但溫度太高易使樹(shù)脂的交換基團(tuán)分解，影響其交換容量的使用壽命。實(shí)踐證明，再生和清洗的溫度對(duì)于工型強(qiáng)堿性陰樹(shù)脂為35~50℃ II型為(35士3)℃在動(dòng)態(tài)陰離子交換過(guò)程中，HSiO-3在樹(shù)脂層中的分布情況與其他陰離子有些不同。HSiO-3雖然主要是被下層的陰樹(shù)脂吸附著，但就是在上層的樹(shù)脂中也有少量吸附。同理，再生時(shí)，樹(shù)脂層中硅酸氫根被置換出來(lái)的速度也就比較緩慢。堿液不加熱要增加再生劑的耗量。