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而陽光控制膜和低輻射膜正好能彌補(bǔ)了普通玻璃在這一方面的不足。陽光控制膜可以滿足低緯度地區(qū)降低室內(nèi)溫度的要求;而低輻射膜則能滿足高緯度地區(qū)充分接受太陽輻射能量和阻止室內(nèi)熱量外流的要求。 在玻璃上,鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃。這種工藝在汽車玻璃上有很好的應(yīng)用。PVD技術(shù)制備的鍍層的穩(wěn)定性好、膜基結(jié)合力高、致密度高,在冷熱交變環(huán)境下的防腐能力較強(qiáng)。多弧離子鍍膜機(jī)
鍍膜技術(shù)在平板顯示器中的應(yīng)用 所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜,而且?guī)缀跛蓄愋偷钠桨屣@示器件都需要使用ITO膜,以滿足透明電器的要求??梢院敛豢鋸埖恼f:沒有薄膜技術(shù)就沒有平板顯示器件。
鍍膜技術(shù)在光學(xué)儀器中的應(yīng)用
人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測距儀,以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它們都離不開鍍膜技術(shù),鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。
1. 真空
在空間內(nèi),低于環(huán)境大氣壓力的氣體狀態(tài)。
2. 真空度
表示真空狀態(tài)下氣體的稀薄程度,通常用壓力值來表示。
3. 真空區(qū)域劃分
低真空 105Pa-102Pa
中真空 102Pa-10-1Pa
高真空 10-1Pa-10-5Pa
超高真空 10-5Pa-10-9Pa
極高真空 <10-9Pa
4. 全壓力
混合氣體中所有組分壓力的綜合。
真空電鍍是真空鍍膜工藝的一項(xiàng)新發(fā)展。真空電鍍當(dāng)高溫蒸發(fā)源通電加熱后,真空電鍍促使待鍍材料—蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。真空電鍍蒸發(fā)料粒子獲得一定動(dòng)能,真空電鍍則沿著視線方向徐徐上升,后真空電鍍附著于工件外表上堆積成膜。鍍膜技術(shù)在光學(xué)儀器中的應(yīng)用人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測距儀,以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它們都離不開鍍膜技術(shù),鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。真空電鍍用這種工藝形成的鍍層,真空電鍍與零件外表既無牢固的化學(xué)結(jié)合。LED真空鍍膜設(shè)備
真空鍍膜設(shè)備,主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類。
真空鍍膜設(shè)備是蒸發(fā)式鍍膜裝置,在真空室中利用電阻加熱法,將緊貼在電阻絲上的金屬絲(鋁絲)熔融汽化沉積于基片上,而獲得光滑高反射率的膜層,達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。
該設(shè)備具有:結(jié)構(gòu)合理,膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作同期短、生產(chǎn)、操作方便,能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。LED真空鍍膜設(shè)備