真空電鍍pvd真空電鍍公司

真空離子鍍，又稱(chēng)真空鍍膜.真空電鍍的做法是一種比較流行的做法，做出來(lái)的產(chǎn)品金屬感強(qiáng)，亮度高．而相對(duì)其他的鍍膜法來(lái)說(shuō)，成本較低，對(duì)環(huán)境的污染小，為各行業(yè)廣泛采用。

真空電鍍可分為

一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊.工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等.

應(yīng)用舉例

一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊.工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等。

PC料耐溫130℃，只有“真空電鍍 UV油光固”才可達(dá)到耐130℃高溫要求。而一般的水電鍍是無(wú)法對(duì)PC料進(jìn)行電鍍的。

國(guó)外電鍍加工訂單及自己的產(chǎn)品如燈飾、鎖具、眼鏡、打火機(jī)、潔具、汽車(chē)、摩托車(chē)配件、裝飾五金、電器元件等的出口，對(duì)電鍍工藝提出越來(lái)越高的技術(shù)要求。近年來(lái)北美、歐洲特別是美國(guó)市場(chǎng)對(duì)鋁合金輪轂的需求逐漸加多。由于拋光研磨直到成品出來(lái)工序過(guò)程繁多，外觀、耐蝕性、結(jié)合力均要，電鍍前處理劑及多鍍種的光亮劑在整個(gè)加工中的共用有限，為了出口創(chuàng)匯，客戶(hù)絕大多數(shù)選擇國(guó)外著名公司的產(chǎn)品。

鋁合金電鍍存在問(wèn)題的原因

對(duì)以上電鍍過(guò)程中出現(xiàn)的問(wèn)題，造成以上現(xiàn)象的原因主要有以下三個(gè)方面：

(1)基體表面不平整，內(nèi)部腔體孔小，并且孔較深，電鍍前的清洗處理不徹底，金屬離子在此處的吸附力很弱，導(dǎo)致空槽周邊的鍍層很薄或者根本沒(méi)有鍍層，這一現(xiàn)象在電鍍現(xiàn)象中很常見(jiàn)，因?yàn)槊恳粋€(gè)工件都有其特殊性，因此在電鍍前需徹底清洗干凈。

(2)有時(shí)候?yàn)榱水a(chǎn)品性能的要求，基體上會(huì)設(shè)計(jì)有螺紋孔與盲孔，根據(jù)電鍍工藝要求，螺紋孔和盲孔是不能進(jìn)行電鍍的，但是電鍍前都會(huì)對(duì)螺紋孔和盲孔進(jìn)行清洗，化學(xué)清洗液不可避免的滲入螺紋孔與盲孔，后用水沖洗的時(shí)候又很難將化學(xué)清洗液沖洗干凈，在后期的電鍍處理時(shí)溫度升高，氣體膨脹，造成壓差，終導(dǎo)致電鍍層無(wú)結(jié)合力。

(3)電鍍前需要對(duì)基體表面進(jìn)行酸堿處理，酸堿液對(duì)保護(hù)膜邊緣會(huì)產(chǎn)生腐蝕，導(dǎo)致出現(xiàn)翹皮現(xiàn)象，如果在用酸堿液清洗時(shí)，不慎將酸堿液滲入夾縫內(nèi)，后期又很難用水沖洗干凈，后勢(shì)必會(huì)影響鍍層的質(zhì)量。

真空電鍍?cè)碚f(shuō)明：

真空電鍍的鍍膜方式分為真空蒸鍍(PVD)與真空濺鍍(SPUTTER)二種：

(1) 真空蒸鍍(PVD)

此乃早期之真空電鍍模式，其原理乃利用鎢絲來(lái)當(dāng)電極，當(dāng)鎢絲被通以電流加熱至鋁金屬之熔點(diǎn)（700至 800℃）時(shí)，此時(shí)置放在鎢絲上之鋁金屬即被蒸發(fā)為鋁原子團(tuán)，此時(shí)鋁原子團(tuán)再一層一層表面之被鍍物，故此制程亦被稱(chēng)為PVD，物理氣相沉積。