脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕（pulsed laser ablation，PLA），是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。

以上就是為大家介紹的全部內(nèi)容，希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多脈沖激光沉積的知識，歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。

脈沖激光沉積簡介

沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業(yè)脈沖激光沉積供應商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

【設備主要用途】

PLD450A型脈沖激光沉積設備采用PLD脈沖激光沉積技術，用于制備高溫超導薄膜、半導體膜、鐵電薄膜、硬質(zhì)薄膜以及微電子和光電子用多元氧化物薄膜及異質(zhì)結，也可用于制備氮、碳、硅化合物及各種有機—無機復合材料薄膜及金剛石薄膜等。

【設備優(yōu)點】

設備全程采用一鍵式操作抽氣，關機，程序自動化定時操作。避免了繁瑣的角閥，插板閥人工開啟。

【設備主要組成】

設備由沉積腔室（單室球形或圓筒形）、樣品加熱轉(zhuǎn)臺、激光入射轉(zhuǎn)靶、激光窗、電源控制系統(tǒng)、激光束掃描系統(tǒng)、計算機控制轉(zhuǎn)靶的旋轉(zhuǎn)、脈沖準分子激光器等組成

脈沖激光沉積系統(tǒng)的特點有哪些？

?  超高真空不銹鋼腔體

?  可集成熱蒸發(fā)源或濺射源

?  可旋轉(zhuǎn)的耐氧化基片加熱臺

?  流量計或針閥準確控制氣體流量

?  標準真空計?  干泵與分子泵

?  可選配不銹鋼快速進樣室

?  可選配基片-靶材距離自動控制系統(tǒng)

?  是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的較佳設備