?PVD真空鍍膜pvd真空鍍膜公司

PVD真空鍍膜過(guò)程的均勻性

PVD真空鍍膜過(guò)程非常復(fù)雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因?yàn)槎夹枰哒婵斩榷鴵碛薪y(tǒng)一名稱。所以對(duì)于不同原理的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個(gè)概念本身也會(huì)隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。

PVD鍍膜加工工藝流程比較長(zhǎng)、工序繁多，發(fā)生故障的影響因素會(huì)很多。如PVD鍍膜前處理不凈、清洗不良、電解液成分失調(diào)及雜質(zhì)污染、生產(chǎn)環(huán)境不良等。PVD鍍膜而故障的原因往往存在于以上各影響因素的一兩個(gè)細(xì)節(jié)之中。

真空鍍膜廠家pvd真空鍍膜公司

CVD真空鍍膜廠家的TAC膜層特點(diǎn)及應(yīng)用：本公司為客戶提供質(zhì)高價(jià)優(yōu)的鍍膜服務(wù)，鍍制的主要膜層有TAC（金剛石膜），這種膜層有以下性能：

TAC膜層的特點(diǎn)：

1.    TAC(類金剛石)膜層有很高的硬度（HV6000）,優(yōu)良的耐磨性能，摩擦系數(shù)極低（低至0.08），膜層厚度1-2um

2.    具有優(yōu)異的耐蝕性，能耐各種酸、堿等腐蝕。

3.    對(duì)金屬、塑料、橡膠、陶瓷等均有良好的抗粘結(jié)和防咬合性能

4.    表面粗糙度低（可達(dá)鏡面級(jí)）

5.    與基體結(jié)合力很強(qiáng)，可以在各種鋼鐵、鈦合金、鋁合金、硬質(zhì)合金等材料上沉積

三：無(wú)環(huán)境污染：目前國(guó)家大力倡導(dǎo)生產(chǎn)環(huán)保，因?yàn)橐磺绣儗淤Y料都是在真空環(huán)境下經(jīng)過(guò)等離子體堆積在工件表面，沒(méi)有溶液污染，所以對(duì)環(huán)境的損害適當(dāng)小。

可是因?yàn)槿〉谜婵蘸偷入x子體的儀器設(shè)備精細(xì)貴重，并且堆積技術(shù)還把握在少量技術(shù)人員手中，沒(méi)有很多被推行，其出資和日常出產(chǎn)維護(hù)費(fèi)用貴重.可是跟著社會(huì)的不斷進(jìn)步，真空電鍍加工技術(shù)的優(yōu)勢(shì)會(huì)越來(lái)越明顯，在某些職業(yè)替代傳統(tǒng)的濕法電鍍是大勢(shì)所趨。