真空磁控陰極濺射法：平板玻璃在具有高真空的真空腔體內(nèi)，處在負電壓的兩極間的工作氣體正離子在正交電磁場的作用下飛向陰極，在很短的陰極位降區(qū)內(nèi)獲得很大的能量去迅速轟擊靶材，從而使陰極(靶材)原子飛向玻璃基片--玻璃沉積膜層，濺射出的二次電子(此過程稱γ過程)在電磁場作用下按旋輪線運動參與碰撞電離，蟹衍載流子，這樣就能源源不斷地轟擊陰極，提供足夠數(shù)量的正離子，形成的等離子區(qū)使持續(xù)輝光放電，其可以一次完成多層鍍膜，有著的膜層均勻性，的邊緣復(fù)蓋和良好的附著力。鍍膜有著優(yōu)于和區(qū)別于其它真空磁控濺射鍍膜機的地方是：它的平面磁控靶上的磁場是由環(huán)形磁鐵產(chǎn)生的，可將半園環(huán)形磁鐵看成是無限T微扇柱狀磁鐵的組合 。在光學(xué)鍍膜材料的應(yīng)用上，鍍膜靶材是核心技術(shù)，通過不同靶材中含有的稀有金屬不同而形成不同的光學(xué)鍍膜材料，普遍應(yīng)用的稀有金屬有氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、、硒等金屬。所以，其相應(yīng)點磁標(biāo)勢較穩(wěn)定，才能生產(chǎn)出均勻牢固的鍍膜層。

在光學(xué)鍍膜材料的應(yīng)用上，鍍膜靶材是核心技術(shù)，通過不同靶材中含有的稀有金屬不同而形成不同的光學(xué)鍍膜材料，普遍應(yīng)用的稀有金屬有氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、、硒等金屬。在反射鏡的光學(xué)材料中普遍用到銅、鉬、硅、鍺等金屬，在輸出端和透射光學(xué)原件中鍺、、硒化鋅等應(yīng)用廣泛。Parylene具有優(yōu)異的尺寸穩(wěn)定性和低溫性能，在幾乎不改變器件尺寸的情況下提供1。

隨著鍍膜技術(shù)的不斷推廣，光學(xué)鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域也在不斷拓寬，這些具有優(yōu)異物理特性的金屬將隨著我們生活水平的提高為我們的生活帶來更多的精彩。

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 

周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用；而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經(jīng)過清洗的情況下用油封機械泵去抽氣，要達到預(yù)期的真空度很難的。

Parylene是一種完全線性結(jié)構(gòu)的高結(jié)晶度透明薄膜材料，直接涂敷在被保護標(biāo)本上，無需另加防霉劑，本身防霉能達零級。脆弱的、標(biāo)本等可用Parylene加固保護，能防止標(biāo)本、生物、動植物標(biāo)本朽蝕及蟲蛀，無需特殊保護就能長期保存，被譽為是一種可給考古界、生物界帶來特殊福音的新型保護材料，能解決其它材料不能解決的保護問題。氟化物：氟化釹NbF3,BaF2，氟化CeF3，氟化鎂MgF2，LaF3，氟化釔YF3，氟化鐿YbF3，氟化鉺ErF3等高純氟化物。