pvd真空鍍膜技術在塑料制品上的運用普遍，塑料具備易成形，低成本，品質輕，不浸蝕等特性，塑料制品運用普遍，但因其缺陷牽制了擴張運用。根據(jù)真空鍍膜技術的運用，使塑料表面金屬化，將有機材料和無機材料融合起來，進一步提高了它的物理學、有機化學特性。

   針對PVD真空鍍膜，不一樣的產(chǎn)品應當挑選適合鍍膜的加工工藝，磁控濺射鍍（關鍵金屬材料產(chǎn)品），揮發(fā)鍍（關鍵塑料產(chǎn)品），電子光學等離子噴涂（關鍵璃玻產(chǎn)品），顏色一樣有多種多樣挑選。

改善思路：充分采用修正板的功能。改善對策：加強傘片管理，特別是擺放時的管理，防止因擺放不當而變形。改善膜料狀況，特別是電子槍蒸鍍升華、半升華材料時，不能把膜料打塌，挖坑。能夠自動預熔的膜料，盡量自動預熔，減少人為因素影響。修正板對物理膜厚的修正很有效，但對折射率的修正是力不從心的，所以完全靠修正板解決分光均勻性，是很困難的。如果一個修正板要對應二把電子槍（蒸發(fā)源）、以及多種膜料，就會有較大的困難。

真空鍍膜所采用的辦法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流堆積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相堆積法。假定真空泵鍍層的目地是更改質料表層的物理學和工藝性能，該技術性是真空泵金屬表層解決技術性的重要構成部分?，F(xiàn)就其幾個主要使用方面做一簡略介紹。在電子光學層面,用不一樣化學物質層或層鍍層的光學鏡片或方解石表層,可變成高反射或許非反射膜(即反反射膜)或全部需求的反射或透射原材料占比,或能用來消化吸收一些光波長,并傳送另一光波長的過濾器。

PVD鍍膜加工過程的均勻性分析：薄膜均勻性的概念：厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所在，具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細解釋。