離子鍍是在真空蒸發(fā)鍍和濺射鍍膜的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種鍍膜技術(shù)，將各種氣體放電方式引入到氣相沉積領(lǐng)域，整個氣相沉積過程都是在等離子體中進(jìn)行的。　　

全SUS304不銹鋼機(jī)身，隱藏式雙層冷卻水套設(shè)計(jì)　　

合理配備多套全新研制的離子弧源，有效保障弧源濺射的穩(wěn)定性與均勻性　　

采用多路進(jìn)氣系統(tǒng)，精準(zhǔn)控制氣體流量，滿足您多種化合物膜層需求。　　

裝載大功率脈沖偏壓電源，極大提高電粒子能量，從而獲得的膜層結(jié)合力和光潔度　　

采用創(chuàng)新工藝制造，精益求精，通過歐盟CE和ISO質(zhì)量管理體系認(rèn)證；

物理氣相沉積涂層設(shè)備，該設(shè)備包括耐高壓真空爐腔、轉(zhuǎn)爐架、真空系統(tǒng)、陰極電弧系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、高溫軸承等，同時采用開發(fā)的先進(jìn)的真空磁控陰極電弧技術(shù)，將具有超高硬度、更強(qiáng)結(jié)合力、均勻一致的納微米超硬薄膜運(yùn)用于刀具、各類模具以及機(jī)械零部件表面，壽命提高達(dá)到3-10倍以上。

研究制備的各類PVD涂層包括高硅涂層、高鋁涂層（氮鋁化鈦）、Cr-Al涂層（AlCrN）、TiCN（氮碳化鈦）涂層、TiN（氮化鈦）涂層、類金剛石（DLC）涂層等。涂層具有光滑、致密、硬度高、耐高溫、抗磨損、防氧化等特點(diǎn)，能夠進(jìn)行批量和工業(yè)化生產(chǎn)應(yīng)用。

一個真正的單層，即大面積石墨烯薄膜覆蓋在大面積銅箔上。改進(jìn)了化學(xué)氣相沉積(CVD)生長方法，消除了石墨烯生長在銅箔上的所有碳雜質(zhì)。這種均勻“”的單層單晶石墨烯有望被用作超高分辨率透射電鏡成像和光學(xué)設(shè)備的超薄支撐材料。也可作為一種合適的石墨烯，以實(shí)現(xiàn)非常均勻的功能化，這將促使推動許多其他應(yīng)用，特別是用于各種類型的傳感器。