原來(lái)磁場(chǎng)強(qiáng)弱雖不好進(jìn)行控制，但同時(shí)工件也在同時(shí)運(yùn)轉(zhuǎn)，且是靶材原子多次沉積此案結(jié)束鍍膜工序，在一段時(shí)間內(nèi)雖然某些部位厚，某些部位薄，但另一個(gè)時(shí)間內(nèi)，磁場(chǎng)強(qiáng)的作用下在原來(lái)薄的部位沉積上厚的，在厚的部位沉積上薄的，如此多次，整個(gè)膜層成膜后，均勻性還是比較不錯(cuò)的。

亞氣的送氣均勻性也會(huì)對(duì)膜層均勻性產(chǎn)生影響，其原理實(shí)際上和真空度差不多，因?yàn)閬啔獾倪M(jìn)入，真空室內(nèi)壓強(qiáng)會(huì)產(chǎn)生變化，均勻的壓強(qiáng)大小可以控制成磁控濺射真空鍍膜機(jī)膜厚度的均勻性。

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光學(xué)鍍膜零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強(qiáng)度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。

光學(xué)鍍膜的前處置做工請(qǐng)求比光學(xué)鍍膜越發(fā)兇險(xiǎn)。這是由于在光學(xué)鍍膜過(guò)程中試件作為陰極，能夠經(jīng)過(guò)調(diào)理陰極的極化度等各項(xiàng)參數(shù)來(lái)得到鍍層。