真空電鍍設(shè)備為更好的進行測試、測定室內(nèi)溫度，真空電鍍設(shè)備使用測溫儀器和控溫儀器，避免溫度過高或不達標(biāo)真空電鍍設(shè)備，抽氣系統(tǒng)由各種真空泵及附件按其各自功能組裝使用。

真空鍍膜和光學(xué)鍍膜區(qū)別

1、真空鍍膜：一般TiN,CrN，TiC，ZrN，電鍍出來的厚度大概是3~5微米。一般情況真空鍍膜的厚度是在設(shè)備上測試不出來了;

2、光學(xué)鍍膜的膜厚測試可以在鍍膜機的中間頂上裝置膜厚測試儀即可。

早的是光控測試，現(xiàn)在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震動的頻率來測試鍍膜的厚度。不同膜層的厚度不同。

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被成為基片，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)。

1,粗抽泵(統(tǒng)稱機械泵)他的排氣口，直接排放到大氣，但極限(能力)小。范圍(1E0~大氣壓)。

2，羅茨泵，必須在排氣口接一個機械泵，工作范圍(5E-2~1000Pa),如果沒達到工作范圍(1000Pa)以上的真空度，運轉(zhuǎn)羅茨泵，使負載大，燒壞羅茨泵的。

3，分子泵(油擴散泵)：以擴散泵為例，工作范圍(1E-7Pa~5pa)，排氣口壓力高于5Pa(正常9E-1Pa),低于，擴散泵不起作用，還會使擴散泵油氧化。

4，粗抽閥，是機械泵開啟后，開啟粗抽閥。

真空鍍膜加工、PVD真空電鍍特性

金屬表面耐磨/顏色均勻一致，持久光澤，在各種正常空氣和陽光直射環(huán)境條件下保持良好外觀。顏色深韻、光亮，可減少清洗和擦亮顏色所必須的時間和成本對環(huán)境不會產(chǎn)生任何污染，在生產(chǎn)和佩戴過程中避免化學(xué)/具有生物兼容性。

真空鍍膜的物理過程

PVD（物理氣相沉積技術(shù)）的基本原理可分為三個工藝步驟：

（1）    鍍料的氣化：即鍍料的蒸發(fā)、升華或被濺射從而形成氣化源

（2）   鍍料粒子（（原子、分子或離子）的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞，產(chǎn)生多種反應(yīng)。

（3）   鍍料粒子在基片表面的沉積

真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用。

、真空鍍膜加工的表面硬度高 化學(xué)鍍鎳層的硬度一般在HV300-600，高的甚至可達到HV700以上，而電鍍鎳的硬度僅為 HV160-180，顯然化學(xué)鍍鎳層的硬度要遠大于電鍍層的硬度.而其化學(xué)鍍鎳層經(jīng)過一定的熱處理后，其硬度還可以提高，可達HV900以上。