電子氣體污染控制要求日趨嚴格隨著電子消費品的升級換代，產品制造尺寸越來越大，產品良率和缺陷控制越來越嚴格，整個電子工業(yè)界對電子氣體氣源純度，以及杜絕輸送系統(tǒng)二次污染的要求越來越苛刻?；旧瞎I(yè)界對電子氣體氣相不純物以及顆粒度污染提出的技術指標，直接與分析儀器技術進步帶來的較低檢測極限（直接關聯(lián)。如傳統(tǒng)的激光顆粒測試儀可測到微米，而核凝結技術可達到微米。目前超大規(guī)模集成電路制造線寬已經發(fā)展到納米，對于大宗氣體的純度都要求在級別，顆粒度控制直指分析儀器的下限。實驗室超高亮度技術指標已達到以上，對于氫氣和氨氣的純度控制要求也都小于氨氣則釆用多級精餾生產技術指標到達的白氨的氫氣需要采用先進的鈀膜純化器提純至。

真空鍍膜時為什么要用到高純氣體

在真空離子鍍膜中，所選用不同氣體所生產出來的，液態(tài)氣體色澤也會不一樣，氬氣一般用作創(chuàng)造鍍膜的環(huán)境鍍鈦和鉻時，工業(yè)氣體充入氮氣可生產出銀色和黃色的產品而想要生產出黑色或灰色的產品，則需要加入氣體加入氧氣則生產藍色的產品。除了氣體外所生產出的產品顏色還受壓力、溫度、時間等條件影響。

真空電鍍是利用的什麼原理?

在高真空度的條件下，高純度的鍍層金屬（如鋁）在高溫下蒸發(fā)后會自由地飛散開并沉降在工件表面，形成鍍層。氬氣為保護性氣體，防止氧化反應影響鍍層質量。氬氣在電鍍過程中有何用?

氬氣不參與反應，只是增加氣壓，改善鍍膜時靶的放電條件，氬氣不是用于鍍膜，主要用于創(chuàng)造鍍膜的環(huán)境。氮氣和氬氣都是惰性氣體,沖進去以后,一 可以排除氧氣,防止氧化,二更具氮氣和氬氣在擴散泵內的含量比例不同,可以鍍膜出不同的顏色.主要是為了改變鍍膜出來產品的色彩.

真空鍍膜行業(yè)中，氬氣的流量大小具體如何控制?

如果是說鍍膜時為了調節(jié)壓力使用的氣體 個人認為如下：氬氣如果只是調節(jié)壓力，一次壓可以不計，但是二次壓要小于0.5個大氣壓。氮氣也是，主要是因為如果大了，會導致真空倉內的壓力變化太劇烈，導致誤差。如果是使用離子源，那么氬氣入氣量不宜過大，大了導致離子量過大，燒壞部件。壓力和上邊沒什么差別。

任何固體材料在大氣環(huán)境下都會溶解和吸附一些氣體，當材料置于真空狀態(tài)時就會因為脫附、解析而出氣。出氣的速率與材料中的氣體含量成正比。不同的材料解析的氣體成分及解析的溫度及時間是不同的。

各種泵對不同成分的氣體抽氣速率也是不一樣的。抽真空時,首先抽走的是容器中的大氣(這部份氣體很快被抽走,10-1Pa時爐內氣體基本抽盡),然后是材料表面解吸的氣體、材料內部向表面擴散出來的氣體,以及通過器壁滲透到真空中的氣體.因此在貨品進入爐內之后，都要進行保溫除氣，因為貨品在進爐前會吸附一些雜質氣體，我們要通過適當的加熱，讓這些氣體解析脫附貨品的表面。以不銹鋼為例，除了在它表面吸附的氣體之外，在不斷的加熱保溫過程中鋼內部還會析出一些氣體，這些氣體的存在往往對薄膜的純度和顏色有較大的影響，對膜層附著力影響也很大。

因此真空鍍膜機鍍膜時，膜層的好壞，氣體啟著關鍵性的作用，是鍍膜環(huán)節(jié)不可或缺的一步。

氦氣和氮氣的區(qū)別

大家都知道制作氦氣的方法有哪些，想要獲取氦氣首先得找到蘊含氦氣的然氣，再通過各種方法獲得粗氦，再按照需求精煉成不同純度的氦氣，所花的代價非常大，氦氣的價格也就水漲船高。

反觀氮氣，只需要將液態(tài)空氣分餾就可以獲得純度不高的氮氣，一般氮氣都是作為工業(yè)制氧時的副產品出現(xiàn)。而且氦氣和氮氣相比，氮氣還有一個優(yōu)勢就是可以在實驗室獲取。實驗室中可以通過氯化銨混合亞肖酸鈉加熱、純空氣通過灼熱銅粉或銅絲網去氧、氨氣通過灼熱氧化銅這些方法人工獲取氦氣，但是可沒聽說過氦氣有實驗室制取方法。