人們把等離子體、離子束引入到傳統(tǒng)的物理氣相沉積技術(shù)的蒸發(fā)和濺射中，參與其鍍膜過程，同時(shí)通入反應(yīng)氣體，也可以在固體表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，生成新的合成產(chǎn)物固體相薄膜，稱其為反應(yīng)鍍。

在濺射鈦(Ti)等離子體中通入反應(yīng)氣體N2后合成TiN就是一例。

這就是說物理氣相沉積也可以包含有化學(xué)反應(yīng)。又如，在反應(yīng)室內(nèi)通入，借助于w靶陰極電弧放電，在Ar，W等離子體作用下使分解，并在固體表面實(shí)現(xiàn)碳鍵重組，生成摻W的類金剛石碳減摩膜，人們習(xí)慣上把這種沉積過程仍歸入化學(xué)氣相沉積，但這是在典型的物理氣相沉積技術(shù)——金屬陰極電弧離子鍍中實(shí)現(xiàn)的。

薄膜(比如銥和鉑薄膜)之所以引起人們的興趣是因?yàn)樗鼈兙哂辛己玫男阅?、高的電導(dǎo)率 、很強(qiáng)的催化活性以及很好的穩(wěn)定性等 。這些性能使得薄膜在電極材料 、微電子 、固態(tài)燃料電池和氣敏元件等許多領(lǐng)域存在廣泛的應(yīng)用。

在CVD處理過程中，尺寸變形小的材料是硬質(zhì)合金及含Cr高的不銹鋼系合金；沖壓加工領(lǐng)域使用的模具材料主要限于合金工具鋼、冷作模具鋼（Cr12MoV）、硬質(zhì)合金等，其中快冷淬透鋼，由于快冷時(shí)容易產(chǎn)生翹曲、扭曲等變形，所以不宜進(jìn)行CVD處理；而高速鋼是熱處理膨脹較大的鋼種，使用時(shí)必須充分估計(jì)其膨脹變形量。

飾品納米鍍膜設(shè)備

以下是制備的必要條件：

①  在沉積溫度下，反應(yīng)物具有足夠的蒸氣壓，并能以適當(dāng)?shù)乃俣缺灰敕磻?yīng)室；

② 反應(yīng)產(chǎn)物除了形成固態(tài)薄膜物質(zhì)外，都必須是揮發(fā)性的；

③ 沉積薄膜和基體材料必須具有足夠低的蒸氣壓。

CVD技術(shù)是作為涂層的手段而開發(fā)的，但不只應(yīng)用于耐熱物質(zhì)的涂·層，而且應(yīng)用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導(dǎo)體薄膜等，是一個(gè)頗具特征的技術(shù)領(lǐng)域，其工藝成本具體而定。

物理氣相沉積涂層設(shè)備，該設(shè)備包括耐高壓真空爐腔、轉(zhuǎn)爐架、真空系統(tǒng)、陰極電弧系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、高溫軸承等，同時(shí)采用開發(fā)的先進(jìn)的真空磁控陰極電弧技術(shù)，將具有超高硬度、更強(qiáng)結(jié)合力、均勻一致的納微米超硬薄膜運(yùn)用于刀具、各類模具以及機(jī)械零部件表面，壽命提高達(dá)到3-10倍以上。

研究制備的各類PVD涂層包括高硅涂層、高鋁涂層（氮鋁化鈦）、Cr-Al涂層（AlCrN）、TiCN（氮碳化鈦）涂層、TiN（氮化鈦）涂層、類金剛石（DLC）涂層等。涂層具有光滑、致密、硬度高、耐高溫、抗磨損、防氧化等特點(diǎn)，能夠進(jìn)行批量和工業(yè)化生產(chǎn)應(yīng)用。