一種電子絮凝污水處理裝置

一種電子絮凝污水處理裝置，所述裝置包括：存放污水 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述的電子絮凝器包括：鋼 制的筒形外殼，所述的外殼內(nèi)的上下兩端安裝絕緣支架，所述的絕緣支架上安 裝有正負(fù)電極，所述的正負(fù)電極與PLC控制器和電源單元連接。 根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述的離心澄清反應(yīng)器包括： 上部為圓柱形下部為圓錐形的筒體，所述圓柱形筒體的中心安裝有內(nèi)筒，所述 內(nèi)筒的上端沿內(nèi)筒邊切線方向安裝入水口;圓柱形筒體沿上口邊緣安裝有泛水 彎;出水口安裝在接近圓柱形筒體上口處;圓錐形筒體的圓錐頂端安裝有排污 口，所述的排污口上安裝有排污電動(dòng)閥，所述的排污電動(dòng)閥與PLC控制器和電 源單元連接。 根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述的過(guò)濾器包括：進(jìn)水管， 所述的進(jìn)水管連接多個(gè)液控三通膜片閥，每個(gè)液控三通膜片閥的另外兩個(gè)水口 通過(guò)管道一個(gè)與反沖洗口連接另一個(gè)與一個(gè)過(guò)濾罐進(jìn)水口連接，各個(gè)過(guò)濾罐的 出水口通過(guò)管道連接在一起并與一個(gè)液控膜片閥連接，各個(gè)液控三通膜片閥和 液控膜片閥與各自的電磁閥通過(guò)控制水管連接，所述的電磁閥與PLC控制器電 連接。

電絮凝廢水處理裝置的不足

目前電絮凝廢水處理裝置，大多是采用物理化學(xué)法。在廢水里投加化學(xué)藥劑，使廢水中的雜質(zhì)形成大的絮凝沉降體，通過(guò)沉淀去除。這種產(chǎn)品存在的不足主要有以下幾點(diǎn)： (1)投加化學(xué)藥劑; (2)沉淀的污泥形成二次污染; (3)化學(xué)藥劑運(yùn)行費(fèi)用高; (4)增加藥劑的投加裝置; (5)人員操作復(fù)雜、繁瑣; (6)需要配套管道混合器。 (7)極板使用壽命短，一半不超過(guò)6個(gè)月。 目前電絮凝技術(shù)中采用的電極板一般是碳鋼材質(zhì)，碳鋼容易氧化腐蝕，電離出的金屬離子容易粘附在極板上，降低和阻礙極板的進(jìn)一步電離。 廢水主要污染物是懸浮顆粒，水質(zhì)表現(xiàn)為懸浮物和色度超標(biāo)，色度由懸浮物引起的，由于廢水中的固體顆粒較小，且比重與水接近，很難靠重力自然沉淀;放任自流不僅會(huì)給周邊環(huán)境造成嚴(yán)重的污染，而且會(huì)造成水資源的極大浪費(fèi);傳統(tǒng)的廢水技術(shù)主要通過(guò)加入化學(xué)藥劑，使微小懸浮物脫穩(wěn)聚集，形成大顆粒，再通過(guò)沉淀、過(guò)濾去除。

電鍍工業(yè)、電絮凝、鎳、鉻、氫氧化鋁、廢水

絮凝是處理工業(yè)廢水的工藝之一，該工藝處理原理是通過(guò)添加含金屬陽(yáng)離子的鹽，金屬陽(yáng)離子的正電荷壓縮帶有負(fù)電位（ζ，Zeta電位）的膠體粒子外部雙電層，使得帶負(fù)電荷的膠體粒子失穩(wěn)，的是鐵鹽和鋁鹽。電絮凝源自傳統(tǒng)的絮凝技術(shù)，陽(yáng)離子金屬電極在電解過(guò)程中溶解于溶液中。許多學(xué)者指出，這個(gè)工藝的主要優(yōu)點(diǎn)是：混凝劑的劑量少、溶液鹽度低、強(qiáng)化了陽(yáng)離子金屬的反應(yīng)活性、可以氧化很多污染物、裝置緊湊、污泥量少以及膠體小顆粒得到充分的去除。電鍍工廠所產(chǎn)生的廢水，做法是在鋁電極..施加兩個(gè)不同的電壓6 V和12 V，目標(biāo)是對(duì)污染的COD、鎳和鉻進(jìn)行去除率測(cè)試，并評(píng)估其性能。測(cè)定的COD、鎳和鉻去除率：6 V時(shí)分別為57%、63%和42%，12 V時(shí)分別為77%、88%和66%。在本研究的pH范圍內(nèi)，這些污染物的去除不僅是由形成的氫氧化鋁或其聚合物通過(guò)吸附作用完成，也可由鉻（Ⅵ）在陰極還原成鉻（Ⅲ），與鎳（Ⅱ）一起形成沉淀析出。電鍍工業(yè)、電絮凝、鎳、鉻、氫氧化鋁、廢水 。