真空鍍膜設備_磁控濺射鍍膜設備技術應用

蒸發(fā)和磁控濺射兩用立式裝飾鍍膜機，主要適用于塑料、陶瓷、玻璃金屬材料表面鍍制金屬化裝飾膜。由于鍍膜室為立式容器，所以它具有臥式鍍膜機的一切優(yōu)點，又利于自重較大的、易碎的鍍件裝卡，更可方便地實現自動生產線，是替代傳統(tǒng)濕法水電鍍的更為理想的新一代真空鍍膜設備。本機鍍部分產品可不做底油。

真空鍍膜設備機主要特點配用改進型高真空排氣系統(tǒng)，抽速快、、節(jié)電、降噪和延長泵使用壽命;實現蒸發(fā)、磁控濺射、自動控制，操作簡單，工作可靠;蒸發(fā)鍍應用新型電極引入裝置，接觸電阻小且可靠;磁控濺射應用鍍膜材料廣泛，各種非導磁的金屬、合金均可作鍍料;結構緊湊、占地面積小;磁控、蒸發(fā)共用兩臺立式工件車，操作方便。

(或雙門蒸發(fā)、磁控兩用機)至成真空科技業(yè)務范圍真空鍍膜成套設備與技術，真空工程用各種泵、閥、真空計、油、脂、密封件，真空鍍膜材料、涂料、金屬及合金制品。

真空鍍膜設備故障診斷與排除、老產品改造。新型塑料、金屬、玻璃等制品表面處理工藝及技術研究，咨詢服務。新技術、新設備、新工藝至成真空科技新開發(fā)的磁控、蒸發(fā)多用鍍膜機，配用改進型高真空抽氣系統(tǒng)及全自動控制系統(tǒng)，抽速快、、操作簡單、工作可靠;具有可鍍膜系廣、膜層均勻、附著力好、基板溫度底等特點;是鍍制金屬、合金及化合物膜的理想設備;適合鍍制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已廣泛應用在光學、電子、通訊、航空等領域。

光學真空鍍膜機薄膜根據其用途分類、特性與應用可分為哪些膜

光學真空鍍膜機薄膜根據其用途分類、特性與應用可分為：反射膜、增透膜/減反射膜、濾光片、偏光片/偏光膜、補償膜/相位差板、配向膜、擴散膜/片、增亮膜/棱鏡片/聚光片、遮光膜/黑白膠等。相關衍生的種類有光學級保護膜、窗膜等。

光學真空鍍膜機光學薄膜的特點是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內是連續(xù)的;可以是透明介質，也可以是吸收介質;可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實際應用的薄膜要比理想薄膜復雜得多。這是因為：制備時，薄膜的光學性質和物理性質偏離大塊材料，起表面和界面是粗糙的，從而導致光束的漫反射;膜層之間的相互滲透形成擴散界面;由于膜層的生長、結構、應力等原因，形成了薄膜的各種向異性;膜層具有復雜的時間效應。

離子真空鍍膜機鍍膜工藝及鍍膜產品表面防腐方法

不銹鋼基材通常會用拋光、拉絲、噴砂、化學蝕刻、激光雕刻、數控機床雕刻等作表面美工處理，有的還用激光焊接，水法電鍍鎳鉻層等。那么離子真空鍍膜機啟到了很關鍵的作用，今天至成小編為大家講解一下離子真空鍍膜機鍍膜工藝及鍍膜產品表面防腐方法。

其實大家都知道，以上介紹幾種不銹鋼基材表面處理方法，各自有各自的優(yōu)勢和劣勢。如：拋光作業(yè)會在工件上殘留難以去除的硬化了的拋光蠟；尼龍輪拉絲在拉絲溝上會殘留透明的不易發(fā)現的高分子化合物；砂輪拉絲可能殘留磨粒和粘結劑，或因摩擦過熱產生氧化皮；噴砂會有陶瓷砂粒﹑玻璃砂粒、氧化鋁砂粒殘留鑲嵌在表面上；化學蝕刻會有腐蝕產物殘留在腐蝕坑內，或在其它非腐蝕表面上殘留用于防腐蝕的保護物質；激光雕刻處理會產生高溫氧化皮和燒蝕基體碎片殘留；數控機床雕刻會有高溫氧化皮和切削油殘留，還會有基材碎片被壓入基體上；激光焊接也會導致高溫氧化等；水法電鍍鉻層會生成難以去除的復雜氧化物，這些處理引起的污染不徹底清除會導致離子鍍過程打火、鍍層假附著、掉膜、顏色不均等不良。

在離子真空鍍膜機鍍產品中美工處理方式往往不是單一的，而是多種作業(yè)組合，這更增加了鍍前清洗的困難。采用傳統(tǒng)的超聲去油除蠟的方法是不能勝任的，必須調整清洗工藝，對不同的污染，可選擇機械清除、氣相清洗﹑真空加熱后再清洗、陰極電解﹑陽極電解、或采用針對性的清洗劑等等。這些綜合措施可取得較好的效果，但對有些污染仍未找到理想的解決辦法。新近等離子體拋光方法應用到鍍前清洗是值得關注的技術，該技術在某些鍍層的褪鍍取得良好效果。

真空PVD鍍膜涂層工藝有那些步驟呢?

今天至成真空小編為大家詳細介紹一下真空PVD鍍膜涂層工藝操作步驟，它的先后順序是怎樣的，有那些細節(jié)和原理是必須要了解的。

首先在處理工藝前，需要褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾。鍍膜工藝，抽真空、加熱烘烤、漏率測試、轟擊清洗、鍍膜、冷卻出爐。后處理工藝：首先清洗環(huán)節(jié)，確保真空鍍膜機鍍膜前產品表面的清潔，越新鮮的表面，越能保證鍍膜質量；然后再抽真空將真空室內的殘余氣體抽走。接下來加熱烘烤，爐體和工件同時加熱，加速殘余氣體的釋放。壓升率測試，測試爐體的漏氣率和放氣率。轟擊清洗，去除工件表面的雜志，露出新鮮表面。鍍膜，沉積膜層。冷卻，避免工件氧化變色。為什么要進行冷卻，鍍膜工藝完成后，真空室內溫度高達500℃，如果不冷卻就放氣，沒有被鍍上膜的高溫工件表面會因為與空氣反應氧化變成藍色。