真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

對(duì)于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。

在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過(guò)程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過(guò)程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。

真空鍍膜技術(shù)一般分為物理液相堆積技術(shù)和有機(jī)化學(xué)液相堆積技術(shù)兩類(lèi)。物理學(xué)液相堆積技術(shù)是指在真空泵標(biāo)準(zhǔn)下用各種物理方法將電鍍材料揮發(fā)成分子、分子結(jié)構(gòu)或弱電解質(zhì)成正離子，立即堆積在基礎(chǔ)表層的方式。

利用化學(xué)物質(zhì)的熱揮發(fā)和離子轟擊分子在化學(xué)物質(zhì)表層的磁控濺射等物理學(xué)全過(guò)程，完成化學(xué)物質(zhì)分子從源化學(xué)物質(zhì)到塑料薄膜的控制轉(zhuǎn)移全過(guò)程?；瘜W(xué)氣相沉積鍍膜

真空鍍膜技術(shù)主要應(yīng)用于哪些領(lǐng)域呢？

1.在裝飾品方面

隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展和生活水平的提高，人們喜歡將手表殼、表帶、服飾、燈飾等裝飾品精飾得五彩繽紛。

2.在模具等金屬切削加工工具方面

在生活中，我們會(huì)看到金色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等，這些就是經(jīng)過(guò)鍍膜技術(shù)加工后的涂層工具。

3.在平板顯示器中

所有各類(lèi)平板顯示器都要用到各種類(lèi)型的薄膜。

真空鍍膜是在真空中將金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),形成薄膜的一種表面處理過(guò)程。真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。在進(jìn)入鍍膜室之前，工件須在電鍍前仔細(xì)清洗。真空鍍膜加工膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強(qiáng)，膜厚均勻?；瘜W(xué)氣相沉積鍍膜

在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。化學(xué)氣相沉積鍍膜