微弧氧化除了所需電功率較大之外，微弧氧化工藝實際上并不算復(fù)雜，所使用的gui酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等電解質(zhì)是環(huán)保無毒的，對鋁材的要求也不高，不管是 6000系的航空級鋁材，還是難以陽極氧化的含銅、含gui鋁材都可以進行微弧氧化，并且能得到理想的陶瓷結(jié)晶層。②通過神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)及相應(yīng)的質(zhì)量控制模型對微弧氧化工藝進行優(yōu)化，工藝的改進（比如鼓入氣泡以及超聲波震動）。微弧氧化在處理過程中會自動對制品表面進行拋光處理，一些粗糙的制品表面可以修復(fù)得平整光滑，在一定程度上也節(jié)省了后期成本。

微弧氧化技術(shù)優(yōu)勢

1、采用堿性電解液，對環(huán)境污染小?！?

2、工藝流程簡單，前處理工序少，適于大規(guī)模自動化生產(chǎn)?！?

3、允許溫度變化范圍寬，電解液允許的溫度范圍一般為10-70℃。　　

4、，處理能力強。工件的形狀可較復(fù)雜，且可處理部分內(nèi)表面，對異形零件、孔洞、焊縫的可加工能力遠遠高于其他表面陶瓷化工藝。且對工件的修補和重復(fù)加工能力投強?！　?

5、電源模式一般采用交流或脈沖方式，這種方式具有較高能量，且生成的陶瓷膜性能比直流電源的高。

陽極氧化膜層與微弧氧化膜層的區(qū)別是什么？

       由微弧氧化膜層的生長機理可知，陽極氧化是微弧氧化的初級階段。3、允許溫度變化范圍寬，電解液允許的溫度范圍一般為10-70℃。陽極氧化發(fā)生的是化學(xué)反應(yīng)，而微弧氧化除化學(xué)反應(yīng)外，還伴隨有電化學(xué)、高溫等離子體等反應(yīng)。其膜層由于是在高溫下生成（瞬間高溫度超過3K攝氏度），膜層與基體間為冶金結(jié)合，因此與基體結(jié)合良好。另外，膜層為氧化物瞬間冷凝形成，具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能，良好的絕緣性等。但歸跟到底，微弧氧化膜層與陽極氧化膜層醉的的差別在于：膜與基體的結(jié)合力，膜層內(nèi)部致密性及相結(jié)構(gòu)。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽極氧化膜層其它方面的性能差異。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源