微弧氧化技術(shù)應(yīng)用前景

      微弧氧化技術(shù)具有很多優(yōu)點，如工藝簡單、不引入有毒物，符合當(dāng)今清潔生產(chǎn)發(fā)展的要求，對要處理的零件形狀沒有特殊要求，特別是對異型零件、孔洞、焊縫的可加工能力強(qiáng)于其他表面陶瓷化工藝，因此微弧氧化技術(shù)在軍事、航空、航天、鐵路、機(jī)械、紡織、汽車、、電子、裝飾等許多領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景。采用微弧氧化技術(shù)所制備的陶瓷膜同時具備了陽極氧化膜和陶瓷噴涂層兩者的優(yōu)點，可以部分替代陽極氧化膜和陶瓷噴涂的產(chǎn)品。微弧氧化是一種直接在有色金屬表面原位生長陶瓷層的新技術(shù)，微弧氧化技術(shù)是近十幾年在陽極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，但兩者在機(jī)理上、工藝上以及膜層性能上都有許多不同之處。

        微弧氧化處理形成的陶瓷氧化膜，與基體呈冶金結(jié)合，膜層致密，具有良好的耐磨、耐蝕性能。 氧化膜的硬度一般能達(dá)到600-1500HV(膜層厚度20-50μm），耐磨性能優(yōu)于硬質(zhì)陽極化膜及電鍍硬鉻。封孔后耐鹽霧試驗水平可達(dá)2000小時以上。該氧化膜還具有良好的絕緣性，耐500V以上的高壓沖擊，且有效防止電偶腐蝕；工作電壓過高，工件易出現(xiàn)燒蝕現(xiàn)象，生成的陶瓷層致密性較差，厚度不鈞勻。氧化膜還具有良好的隔熱特性，是鋁合金活塞的首要選擇。

微弧氧化工藝研究

        微弧氧化的工藝研究主要集中在電流密度、電解液組成、電源模式、基材成分等工藝因素對氧化膜的厚度、結(jié)構(gòu)與性能的影響方面。 指出，電流密度對微弧氧化膜厚度有著決定性影響。在含有濃度6%水玻璃的電解液中，使用工業(yè)交流電源，對兒種不同鋁合金，依零件的不同幾何形狀和尺寸，電流密度在1--50A / cm2范圍內(nèi)，經(jīng)60次微弧氧化實驗的結(jié)果表明，形成的氧化膜厚度與電流密度成線性關(guān)系。微弧氧化技術(shù)為提高鋁材料的表面性能，常用的方法有電鍍，激光，陽極氧化等，其中微弧氧化技術(shù)是基于陽極氧化發(fā)展起來的一種先進(jìn)的表面強(qiáng)化處理技術(shù)。