鍍膜是一種由物理方法造成塑料薄膜原材料的技術(shù)性，在真空泵房間內(nèi)原材料的分子從加溫源混凝土離析出去打進被鍍物件的表層上。鍍膜的作用是各個方面的，這也決策了其運用場所比較豐富。整體而言，鍍膜的關(guān)鍵作用包含授予被鍍件表層高寬比金屬質(zhì)感和鏡面玻璃實際效果，在塑料薄膜原材料上使膜層具備優(yōu)異的隔絕特性，出示出色的磁屏蔽材料和導(dǎo)電性實際效果。

真空鍍膜技術(shù)性被稱作發(fā)展前景的關(guān)鍵技術(shù)性之一， 鍍膜企業(yè)并已在高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的發(fā)展趨勢中展示出的行業(yè)前景。

物理氣相沉積技術(shù)表示在真空條件下，采用物理方法，將材料源——固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。 物理氣相沉積的主要方法有，真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜，及分子束外延等。發(fā)展到目前，物理氣相沉積技術(shù)不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、半導(dǎo)體、聚合物膜等。

真空鍍膜技術(shù)一般分為物理液相堆積技術(shù)和有機化學(xué)液相堆積技術(shù)兩類。物理學(xué)液相堆積技術(shù)是指在真空泵標準下用各種物理方法將電鍍材料揮發(fā)成分子、分子結(jié)構(gòu)或弱電解質(zhì)成正離子，立即堆積在基礎(chǔ)表層的方式。

利用化學(xué)物質(zhì)的熱揮發(fā)和離子轟擊分子在化學(xué)物質(zhì)表層的磁控濺射等物理學(xué)全過程，完成化學(xué)物質(zhì)分子從源化學(xué)物質(zhì)到塑料薄膜的控制轉(zhuǎn)移全過程。玻璃真空鍍膜

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。在進入鍍膜室之前，工件須在電鍍前仔細清洗。表面污染來源于加工、運輸和包裝過程中粘附在工件上的各種灰塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物質(zhì)。為了避免加工過程中造成的缺陷，真空鍍膜廠家基本上可以通過脫脂或化學(xué)清洗的方式去除。