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氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用拓展三
(1)電子行業(yè)
微波發(fā)射管、電子管、晶體管、集成電路、密封繼電器、各類傳感器、心臟起博器。
(2)真空行業(yè),儀器、儀表行業(yè)
管道、接頭、閥門(mén)、波紋管、各種真空泵、各類排氣機(jī)組、電鏡、質(zhì)譜儀、電子束離子速暴光機(jī)、激光軸分離器、高能加1速器、加1速器、輻照加1速器、鍍膜機(jī)、薄膜真空計(jì)。
(3)核工業(yè)
鈾分離裝置、存儲(chǔ)裝置、核發(fā)電裝置。
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氦質(zhì)譜檢漏儀
今天和大家分享的是氦質(zhì)譜檢漏儀的相關(guān)知識(shí),希望對(duì)您有所幫助!
氦質(zhì)譜檢漏方法在真空檢漏技術(shù)領(lǐng)域里已經(jīng)得到廣泛的應(yīng)用,這種方法的優(yōu)點(diǎn)是:檢漏靈敏度高,可以檢漏到10-11Pam3/s 數(shù)量級(jí),儀器響應(yīng)快,氦分子在儀器高真空的環(huán)境中擴(kuò)散的速度很高;所以氦質(zhì)譜檢漏儀在許多領(lǐng)域里得到廣泛的應(yīng)用,例如,在航空航天領(lǐng)域里宇宙飛船、航天飛機(jī)、火箭、飛機(jī)等這些都要用到真空檢漏技術(shù)。在一般工業(yè)領(lǐng)域里原子能、發(fā)電廠、配電站、合成氨的氮肥生產(chǎn)廠、汽車制造業(yè)、造船工業(yè)、制冷工業(yè)、冶金工業(yè)、輸氣管道、氣罐、油罐、鍋爐快餐食品包裝等都離不開(kāi)檢漏問(wèn)題,同樣在導(dǎo)1彈武1器裝備中也離不開(kāi)檢漏,導(dǎo)1彈彈體、燃料儲(chǔ)備罐、燃料運(yùn)輸管道、彈頭、特殊部件的密封性都要用到氦質(zhì)譜檢漏,本文主要真對(duì)氦質(zhì)譜檢漏原理及方法進(jìn)行綜述。氦質(zhì)譜檢漏儀的主要及時(shí)指標(biāo)科儀創(chuàng)新是專業(yè)生產(chǎn)氦質(zhì)譜檢漏儀的廠家,專業(yè)用于電廠檢漏。
氦質(zhì)譜檢漏儀測(cè)量數(shù)據(jù)處理
漏率的溫度修正
標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率易受溫度變化影響,溫度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響一般為3%/℃ ,所以如果實(shí)際環(huán)境溫度和標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中溫度不一致,需要將標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中漏率和標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值修正至同一環(huán)境溫度下來(lái)計(jì)算,并在測(cè)試結(jié)果中加以說(shuō)明,修正方法如下:
方法一: 將標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中的漏率修正至實(shí)際環(huán)境溫度下,用標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中的漏率加上或減去溫度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響系數(shù)計(jì)算值;
方法二: 將標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值平均值修正至標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中環(huán)境溫度下,用標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值平均值加上或減去溫度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響系數(shù)計(jì)算值。
氦質(zhì)譜檢漏儀常用檢漏方法及標(biāo)準(zhǔn)
氦質(zhì)譜檢漏法是利用氦質(zhì)譜檢漏儀的氦分壓力測(cè)量原理,實(shí)現(xiàn)被檢件的氦泄漏量測(cè)量。當(dāng)被檢件密封面上存在漏孔時(shí),示漏氣體氦氣及其它成分的氣體均會(huì)從漏孔泄出,泄漏出來(lái)的氣體進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀后,由于氦質(zhì)譜檢漏儀的選擇性識(shí)別能力,僅給出氣體中的氦氣分壓力信號(hào)值。在獲得氦氣信號(hào)值的基礎(chǔ)上,通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)漏孔比對(duì)的方法就可以獲得漏孔對(duì)氦泄漏量。今天科儀創(chuàng)新的小編和大家分享的是氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)示漏氣體的要求及選擇,如果您想了解更多您可撥打圖片上的電話進(jìn)行咨詢。
根據(jù)檢漏過(guò)程中的示漏氣體存貯位置與被檢件的關(guān)系不同,可以將氦質(zhì)譜檢漏法分為真空法、正壓法、真空壓力法和背壓法,下面分別總結(jié)了這四種氦質(zhì)譜檢漏法的檢測(cè)原理、優(yōu)缺點(diǎn)及檢測(cè)的標(biāo)準(zhǔn)。
真空法氦質(zhì)譜檢漏
采用真空法檢漏時(shí),需要利用輔助真空泵或檢漏儀對(duì)被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空,采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣,當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有漏孔時(shí),氦氣就會(huì)通過(guò)漏孔進(jìn)入被檢產(chǎn)品內(nèi)部,再進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀,從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測(cè)量。按照施漏氣體方法的不同,又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣,可以實(shí)現(xiàn)漏孔的準(zhǔn)確定位; 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來(lái),在罩內(nèi)充滿一定濃度的氦氣,可以實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率的測(cè)量。當(dāng)磁場(chǎng)的磁通密度一定時(shí),不同質(zhì)荷比(m/e)的離子在磁場(chǎng)中都有相應(yīng)的運(yùn)輸半徑,也就是都有相應(yīng)的圓軌跡,這樣,不同質(zhì)荷比的帶電粒子在磁場(chǎng)分析器中運(yùn)動(dòng)后就會(huì)彼此分開(kāi)。