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磁控濺射儀廠家免費(fèi)咨詢(xún)「多圖」

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發(fā)布時(shí)間:2021-10-11 08:00  






臥式磁控濺射鍍膜機(jī)

以下是沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您一起分享的內(nèi)容,沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)磁控濺射產(chǎn)品,歡迎新老客戶(hù)蒞臨。

主要用途:  

用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備?! ?

系統(tǒng)組成:  

主要由真空室系統(tǒng)濺射室、靶及電源系統(tǒng)、樣品臺(tái)系統(tǒng)、真空抽氣及測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)及輔助系統(tǒng)等組成。



雙靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

設(shè)備用途:

用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。同時(shí)設(shè)備具有反濺射清洗功能,以提高膜的質(zhì)量和牢固度。

設(shè)備組成

系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶(2個(gè)靶)、單基片加熱臺(tái)、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。

以上就是關(guān)于磁控濺射產(chǎn)品的相關(guān)內(nèi)容介紹,如有需求,歡迎撥打圖片上的熱線(xiàn)電話(huà)!



光纖磁控濺射鍍膜機(jī)組成

以下內(nèi)容由沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供,希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助。

在光纖表面鍍制納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。配有陽(yáng)極層離子源進(jìn)行清洗和輔助沉積,同時(shí)設(shè)備具有反濺射清洗功能,以提高膜的質(zhì)量和牢固度。樣品臺(tái)可鍍制多種型號(hào)光纖產(chǎn)品

系統(tǒng)主要由真空室、磁控靶、單基片加熱臺(tái)、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。



磁控濺射鍍膜機(jī)的工作原理是什么?

磁控濺射原理:電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與原子發(fā)生碰撞,電離出大量的離子和電子,電子飛向基片。離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過(guò)程中受到磁場(chǎng)洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng),該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長(zhǎng),在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不斷的與原子發(fā)生碰撞電離出大量的離子轟擊靶材,經(jīng)過(guò)多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線(xiàn)的束縛,遠(yuǎn)離靶材,沉積在基片上。磁控濺射就是以磁場(chǎng)束縛和延長(zhǎng)電子的運(yùn)動(dòng)路徑,改變電子的運(yùn)動(dòng)方向,提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不僅僅是基片,真空室內(nèi)壁及靶源陽(yáng)極也是電子歸宿。但一般基片與真空室及陽(yáng)極在同一電勢(shì)。磁場(chǎng)與電場(chǎng)的交互作用( E X B drift)使單個(gè)電子軌跡呈三維螺旋狀,而不是僅僅在靶面圓周運(yùn)動(dòng)。至于靶面圓周型的濺射輪廓,那是靶源磁場(chǎng)磁力線(xiàn)呈圓周形狀形狀。產(chǎn)品特點(diǎn)1:此款鍍膜儀配置有兩個(gè)靶槍?zhuān)阂粋€(gè)靶槍配套的是射頻電源,用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜。磁力線(xiàn)分布方向不同會(huì)對(duì)成膜有很大關(guān)系。在E X B shift機(jī)理下工作的不光磁控濺射,多弧鍍靶源,離子源,等離子源等都在次原理下工作。所不同的是電場(chǎng)方向,電壓電流大小而已

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司本著多年磁控濺射產(chǎn)品行業(yè)經(jīng)驗(yàn),專(zhuān)注磁控濺射產(chǎn)品研發(fā)定制與生產(chǎn),先進(jìn)的磁控濺射產(chǎn)品生產(chǎn)設(shè)備和技術(shù),建立了嚴(yán)格的產(chǎn)品生產(chǎn)體系,想要更多的了解,歡迎咨詢(xún)圖片上的熱線(xiàn)電話(huà)?。。?



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