光刻膠趨勢(shì)

半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域全球市場(chǎng)規(guī)模趨于穩(wěn)定， 2017年全球市場(chǎng)約13.5億美元；國(guó)內(nèi)市場(chǎng)約20.2億元，近5年復(fù)合增速達(dá)12%。受全球半導(dǎo)體市場(chǎng)復(fù)蘇和國(guó)內(nèi)承接產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移，預(yù)計(jì)全球光刻膠市場(chǎng)將保持穩(wěn)定增速，國(guó)內(nèi)市占率穩(wěn)步抬升。

光刻膠生產(chǎn)、檢測(cè)、評(píng)價(jià)的設(shè)備價(jià)格昂貴，需要一定前期資本投入；LCD市場(chǎng)助力全球LCD面板總出貨面積增長(zhǎng)，LCD光刻膠需求增加。光刻膠企業(yè)通常運(yùn)營(yíng)成本較高，下游廠(chǎng)商認(rèn)證采購(gòu)時(shí)間較長(zhǎng)，為在設(shè)備、研發(fā)和技術(shù)服務(wù)上取得競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，需要足夠的中后期資金支持。企業(yè)持續(xù)發(fā)展也需投入較大的資金，光刻膠行業(yè)在資金上存在較高的壁壘，國(guó)外光刻膠廠(chǎng)商相對(duì)于國(guó)內(nèi)廠(chǎng)商，其公司規(guī)模更大，具有資金和技術(shù)優(yōu)勢(shì)。

總體上，光刻膠行業(yè)得到國(guó)家層面上的政策支持。2μm品牌產(chǎn)地型號(hào)厚度耐熱溫度應(yīng)用Futurrex美國(guó)PR1-500A0。《國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》，提出“研發(fā)光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、離子注入機(jī)等關(guān)鍵設(shè)備，開(kāi)發(fā)光刻膠、大尺英寸硅片等關(guān)鍵材料”；國(guó)家重點(diǎn)支持的高新技術(shù)領(lǐng)域（2015）中提到“高分辨率光刻膠及配套化學(xué)品作為精細(xì)化學(xué)品重要組成部分，是重點(diǎn)發(fā)展的新材料技術(shù)”；光刻技術(shù)（包括光刻膠）是《中國(guó)制造 2025》重點(diǎn)領(lǐng)域。

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9，去膠:濕法去膠，用溶劑、用NONG硫酸。雖然在甩膠之后，液態(tài)的光刻膠已經(jīng)成為固態(tài)的薄膜，但仍有10％－30％的溶劑，容易沾污灰塵。負(fù)膠，98%H2SO4 H2O2 膠=CO CO2 H2O,正膠：BIN酮,干法去膠（ash）氧氣加熱去膠O2 膠=CO CO2 H2O,等離子去膠Oxygenplasma ashing,高頻電場(chǎng)O2---電離O- O ,  O 活性基與膠反應(yīng)CO2，CO， H2O, 光刻檢驗(yàn)

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光刻膠運(yùn)輸標(biāo)識(shí)及注意事項(xiàng)

標(biāo)簽上標(biāo)明的意思

R標(biāo)識(shí)

R10 YI燃。

S標(biāo)識(shí)

S16  遠(yuǎn)離火源-禁止吸煙。

S 24 避免接觸皮膚。

S 33對(duì)靜電放電采取預(yù)防措施。

S 9  將容器保持在通風(fēng)良好的地方。

水生毒性

通過(guò)自然環(huán)境中的化學(xué)、光化學(xué)和微生物降解來(lái)分解。一般不通過(guò)水解降解。300 ppm對(duì)水生生物是安全的。鹵化反應(yīng)可能發(fā)生在水環(huán)境中。