公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

掩膜板是光刻圖形的基準和藍本，掩膜板上:的任何缺陷都會對終圖形精度產生嚴重的影響。所以掩膜板必須保持“完關”。

使用掩膜板存在許多損傷來源:掩膜板掉鉻:表面擦傷，需要輕拿輕放:靜電放電(ESD)，在掩膜板夾子.上需要連一根導線到金屬桌面，將產生的靜電導出。建議預置時間為12小時，預置時必須打開膠片的內包裝，使其與外界的空氣充分接觸。另外，不能用手觸摸掩膜板:灰塵顆粒，在掩膜板盒打開的情況下，不準進出掩膜板室(Mask Room)，在存取掩膜板時室內保持2人。

刻蝕或離子注入完成后，將進行光刻的后一步，即將光刻膠去除，以方便進行半導體器件制造的其他步驟。掩膜版是制作掩膜圖形的理想感光性空白板，通過曝光過程，這些圖形的信息將被傳遞到芯片上，用來制造芯片。通常，半導體器件制造整個過程中，會進行很多次光刻流程。生產復雜集成電路的工藝過程中可能需要進行多達50步光刻，而生產薄膜所需的光刻次數會少一些。

在容柵電子光學微影技術性中，光罩表層的擋光圖樣會與基鋼板上的光阻層觸碰磨擦，非常容易促使擋光圖樣損耗促使光罩使用期減少。如需要烤版，烤版時要注意：①首先要選好烤版膠，烤版膠不能太臟。另一個，當施膠光亮阻層的基鋼板表層并不是十分整平時，光罩與光阻層會造成不確定性的間隙與間距，而導致光源的光學散射與繞射，從而導致曝i光的規(guī)格偏差，而且導致光阻層淺部一部分的側面曝i光范疇擴張，因此沒法制做出深奧長寬比的光阻構造。

石英巖是一種主要由石英組成的變質巖（石英含量大于85%），是石英砂巖及硅質巖經變質作用形成。一般是由石英砂巖或其他硅質巖石經過區(qū)域變質作用，重結晶而形成的。也可能是在巖漿附近的硅質巖石經過熱接觸變質作用而形成石英巖。