真空鍍膜機(jī)給物件鍍膜,為什么要在真空狀態(tài)下進(jìn)行?

真空鍍膜機(jī)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于生活中，大家對它也是耳熟能詳，也了解他的作用和用處，包括他的應(yīng)用領(lǐng)域，但是很多人卻不太了解，真空鍍膜機(jī)在給物件鍍上一層膜的時(shí)候，為什么要選擇在真空狀態(tài)下進(jìn)行：

大家都知道物件鍍膜在常壓下蒸鍍膜料無法形成理想的薄膜，事實(shí)上，如在壓力不夠低(或者說真空度不夠高)的情況下同樣得不到好的結(jié)果，比如在10托數(shù)量級下蒸鍍鋁，得到的膜層不但不光亮，甚至發(fā)灰、發(fā)黑，而且機(jī)械強(qiáng)度極差，用松鼠毛刷輕輕一刷即可將鋁層破壞。蒸鍍必須在一定的真空條件下進(jìn)行，這是因?yàn)椋?

（1）較高的真空度可以保證汽化分子的平均自由程大于蒸發(fā)源到基底的距離。

由于氣體分子的熱運(yùn)動，分子之間的碰撞也是極其頻繁的，所以盡管氣體分子運(yùn)動的速度相當(dāng)?shù)母?可達(dá)每秒幾百米)，但是由于它在前進(jìn)的過程中要與其它分子多次碰撞，一個(gè)分子在兩次連續(xù)碰撞之間所走的距離被稱為它的自由程，而大量分子自由程的統(tǒng)計(jì)平均值就被稱為分子的平均自由程。

（2）在較高的真空度下可以減少殘余氣體的污染在真空度不太高的情況下，真空室內(nèi)含有眾多的殘余氣體分子(氧、氮、水及碳?xì)浠衔锏?，它們能給薄膜的鍍制帶來極大的危害。它們與汽化的膜料分子碰撞使平均自由程變短；它們與正在成膜的表面碰撞并與之反應(yīng)；它們隱藏在已形成的薄膜中逐漸侵蝕薄膜；它們與蒸發(fā)源高溫化合減少其使用壽命；它們在已蒸發(fā)的膜料表面上形成氧化層使蒸鍍過程不能順利進(jìn)行。

光學(xué)鍍膜機(jī)電子槍打火問題是怎么引起的,該如何減少次數(shù)呢?

很多人對光學(xué)鍍膜機(jī)電子槍打火問題很疑惑，不知道是什么原因產(chǎn)生的，也不知道該如何減少這種情況的發(fā)生，今天至成真空小編為大家講解一下光學(xué)鍍膜機(jī)電子槍打火問題是怎么引起的？

電子槍在蒸鍍時(shí)，由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發(fā)材料的蒸汽發(fā)生碰撞產(chǎn)生的離子轟擊帶負(fù)電高壓電極及其引線，即產(chǎn)生打火。另外，若這些帶負(fù)高壓電的部分有塵粒等雜物，會使該處電場集中了容易打火。故電子束蒸鍍設(shè)備的高壓電源都附有高壓自動滅弧復(fù)位裝置，在打火非常嚴(yán)重時(shí)才會自動切斷高壓，然后又自動恢復(fù)，切斷與恢復(fù)的時(shí)間愈短，愈不會影響蒸鍍工藝。

那么，在安裝和使用的過程中，該如何才能減少打火次數(shù)。首先、高壓引線應(yīng)盡量短，并用接地良好的不銹鋼板屏蔽住，不要追求美觀把引線彎來彎去。然后，槍頭金屬件和引線定期用細(xì)砂紙打光，然后清洗干凈。上螺釘?shù)穆菘锥ㄆ谟媒z錐攻螺孔，以便螺釘上下方便并保證壓的很緊。接著，所有陶瓷件污染后應(yīng)予更換。電子槍體應(yīng)可靠接地。對放氣量大的材料應(yīng)充分預(yù)熱以徹底除氣。蒸鍍時(shí)功率要合適，不可過高造成材料飛濺。高壓饋線與高壓絕緣子金屬件的接線一定要可靠并經(jīng)常檢查，以免增大接觸電阻造成發(fā)熱而燒壞。蒸發(fā)檔板應(yīng)高于蒸發(fā)源70mm.1

多弧離子真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)

很多朋友問我關(guān)于多弧離子真空鍍膜機(jī)真空技術(shù)方面的問題，當(dāng)時(shí)給朋友解釋了很多，今天至成小編為大家詳細(xì)介紹一下：

多弧離子鍍是采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發(fā)金屬，蒸發(fā)物是從陰極弧光放電放出的陰極物質(zhì)的離子，這種裝置不需要熔池，被蒸發(fā)的靶材接陰極，真空室為陽極，當(dāng)觸發(fā)電極與陰極靶突然瞬間接觸時(shí)，就會引起電弧，在陰極表面產(chǎn)生強(qiáng)烈發(fā)光的陰極弧光斑點(diǎn)，斑點(diǎn)直徑在100?m以下，斑點(diǎn)內(nèi)的電流密度可達(dá)103~107A/cm2于是在這一區(qū)域內(nèi)的材料就瞬時(shí)蒸發(fā)并電離。陰極弧光斑點(diǎn)在陰極表面上，以每秒幾十米的速度做無規(guī)則運(yùn)動，外加磁場用來控制輝點(diǎn)的運(yùn)動軌跡和速度，為了維持真空電弧，一般要求電壓為–20到–40V。多弧離子鍍的原理是基于冷陰極真空弧光放電理論，該理論認(rèn)為，放電過程的電量遷移是借助于場電子發(fā)射和正離子電流這兩種機(jī)制同時(shí)存在且相互制約而實(shí)現(xiàn)的。

在放電過程中，陰極材料大量蒸發(fā)，這些蒸汽分子產(chǎn)生的正離子，在陰極表面附近很短的距離內(nèi)產(chǎn)生極強(qiáng)的電場，在這樣強(qiáng)的電場作用下，電子以產(chǎn)生以場電子發(fā)射而溢出到真空中，而正離子可占總的電弧電流的10%左右，被吸到陰極表面的金屬離子形成空間電荷層，由此產(chǎn)生強(qiáng)電場，使陰極表面上功函數(shù)小的點(diǎn)(晶界或裂痕)開始發(fā)射電子。個(gè)別發(fā)射電子密度高的點(diǎn)，電流密度高。焦耳熱使溫度上升又產(chǎn)生熱電子，進(jìn)一步增加發(fā)射電子。這個(gè)正反饋?zhàn)饔檬闺娏骶植考小Ｓ捎陔娏骶植考挟a(chǎn)生的焦耳熱使陰極材料表面局部爆發(fā)性地等離子化，發(fā)射電子和離子，并留下放電痕。同時(shí)也放出熔融的陰極材料粒子。發(fā)射的離子中的一部分被吸回陰極表面，形成空間電荷層，產(chǎn)生強(qiáng)電場，又使新的功函數(shù)小的點(diǎn)開始發(fā)射電子。

PVD技術(shù)都有那些分類呢

？PVD真空鍍膜機(jī)物理氣相沉積是一種物理氣相反應(yīng)生長法，沉積過程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過“蒸發(fā)或?yàn)R射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。那么這兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮；PVD鍍膜不會產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。

在現(xiàn)階段，PVD鍍膜是不能取代化學(xué)電鍍的，并且除了在不銹鋼材料表面可直接進(jìn)行PVD鍍膜外，在很多其他材料（如鋅合金、銅、鐵等）的工件上進(jìn)行PVD鍍膜前，都需要先對它們進(jìn)行化學(xué)電鍍Cr(鉻)。PVD鍍膜主要應(yīng)用在一些比較五金制品上，對那些價(jià)格較低的五金制品通常也只是進(jìn)行化學(xué)電鍍而不做PVD鍍膜。