反滲透設(shè)備的用途

⒈制取電子工業(yè)生產(chǎn)如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線(xiàn)路板、計(jì)算機(jī)硬盤(pán)、集成電路芯片、單晶硅半導(dǎo)體等工藝所需的純水、高純水。

⒉制取熱力、火力發(fā)電鍋爐，廠(chǎng)礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水。

⒊制取yi藥工業(yè)所需的yi用大輸液、藥劑、生化制品純水、yi用無(wú)菌水等。

4.制取飲料（含酒類(lèi)）行業(yè)的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水，酒類(lèi)釀造水和勾兌用純水。

5.海水、苦咸水制取生活用水及飲用水。

6.制取電鍍工藝用去離子水。電池（蓄電池）生產(chǎn)工藝的純水。汽車(chē)、家用電器、建材產(chǎn)品表面涂裝、清洗沌水。鍍膜玻璃用純水。紡織印染工藝所需的除硬除鹽水。

純水設(shè)備常見(jiàn)問(wèn)題及原因分析

純水設(shè)備常見(jiàn)問(wèn)題

1.純水設(shè)備產(chǎn)水電導(dǎo)和濃水電導(dǎo)率同時(shí)升高的原因可能是：

（1）濃水管道或濃水調(diào)節(jié)閥污堵；

（2）回收率過(guò)高。

2.若設(shè)備產(chǎn)水電導(dǎo)率高同時(shí)濃水的電電導(dǎo)率也高，并且每段壓力降也高。

原因分析：膜元件受到污染對(duì)濃水流速造成了影響。

3.產(chǎn)水電導(dǎo)率高，容器壓降變大，產(chǎn)水流量低

原因分析：膜元件污染

4.容器的壓降大，產(chǎn)水流量低但電導(dǎo)率增加

原因分析：膜元件通道污染或阻塞。

純水設(shè)備的主要工藝流程

純水設(shè)備的主要工藝流程：

??1. 反滲透純水設(shè)備的工藝流程

??自來(lái)水箱--提升泵--多介質(zhì)過(guò)濾--活性碳過(guò)濾--軟水過(guò)濾--反滲透主機(jī)--純水箱

??2. 雙級(jí)反滲透純水設(shè)備工藝：

??自來(lái)水箱--提升泵--多介質(zhì)過(guò)濾--活性碳過(guò)濾--軟水過(guò)濾--一級(jí)反滲透主機(jī)--中間水箱--高壓泵--二級(jí)反滲透主機(jī)--純水箱

??3. 離子交換純水設(shè)備的工藝：

??自來(lái)水箱--提升泵--多介質(zhì)過(guò)濾--活性碳過(guò)濾--陽(yáng)床--陰床--純水箱

一套完整的反滲透設(shè)備系統(tǒng)

一套完整的反滲透設(shè)備系統(tǒng)分別由預(yù)處理部分、反滲透主機(jī)（膜過(guò)濾部分）、后處理部分和系統(tǒng)清洗部分共同組成。 預(yù)處理部分： 反滲透設(shè)備的預(yù)處理常常由石英砂過(guò)濾裝置、活性炭裝置、精密過(guò)濾裝置組成，主要目的是去除原水中含有的泥沙、鐵銹、膠體物質(zhì)、懸浮物，色素、異味、生化有機(jī)物，降低水中的余氨值及污染等有害的物質(zhì)。如果原水中鈣鎂離子含量較高時(shí)，還需增加軟水裝置，主要目的在于保護(hù)后級(jí)的反滲透膜不受大顆粒物質(zhì)的破壞，從而延長(zhǎng)反滲透膜的使用壽命。 反滲透主機(jī)： 主要有增壓泵、膜殼、反滲透膜、控制電路等組成，是整個(gè)水處理系統(tǒng)中的核心部分，產(chǎn)水水質(zhì)的好壞也取決該部分。只要膜的型號(hào)及增壓泵的型號(hào)選取得當(dāng)，反滲透主機(jī)對(duì)水中鹽分的過(guò)濾能力都能達(dá)到99%以上，出水電導(dǎo)率可保證在10us/cm（25度）以?xún)?nèi)。 后處理部分： 主要是對(duì)反滲透主機(jī)制取的純水作進(jìn)一步的處理，如果后續(xù)工藝接離子交換或電去離子（EDI)設(shè)備，則可以制取工業(yè)用超純水，如果用在民用直飲水工藝上，則常常接后置殺菌裝置，例如可以接紫外線(xiàn)殺菌燈或者臭氧發(fā)生器，從而使出來(lái)的水可以直接飲用。 清洗部分： 為了保證反滲透設(shè)備系統(tǒng)的正常運(yùn)行及延長(zhǎng)反滲透膜元件的使用壽命，當(dāng)反滲透設(shè)備系統(tǒng)運(yùn)行一段時(shí)間后為去除碳酸鈣垢、水中金屬氧化物垢、生物滋長(zhǎng)（細(xì)菌、真菌、霉菌等）等物質(zhì)就需要對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行清洗。