根據(jù)金屬腐蝕機(jī)過程的分類為︰

   1、化學(xué)腐蝕是金屬和環(huán)境損害所產(chǎn)生直接的化學(xué)作用，無電流腐蝕過程中產(chǎn)生?；瘜W(xué)原因可能不導(dǎo)電。    2、電化學(xué)腐蝕電化學(xué)腐蝕金屬介質(zhì)中的電化學(xué)作用造成腐蝕電流破壞過程中產(chǎn)生。電化學(xué)腐蝕引起的媒體可以通過它的電流。耐腐蝕的金屬主要是電化學(xué)腐蝕。    根據(jù)金屬在環(huán)境造成的破壞或金屬腐蝕惡化的行動。這里的環(huán)境是指物質(zhì)接觸金屬，例如空氣、土壤、水、生產(chǎn)用的原料、材料和產(chǎn)品。    金屬腐蝕機(jī)主要是由于這些物質(zhì)和化學(xué)或電化學(xué)引起的金屬。金屬的化學(xué)或電化學(xué)變化作金屬化合物生成與原金屬的成分和性質(zhì)完全不同的另一種物質(zhì)，尤其是作為木頭燒成木炭或二氧化碳。

離子植入：其是用來控制半導(dǎo)體中雜質(zhì)量的關(guān)鍵程序，對半導(dǎo)體表面附近區(qū)域進(jìn)行摻雜技術(shù)。優(yōu)點(diǎn)在于雜質(zhì)量的控制，雜質(zhì)分布的再重整，及低溫下操作。    離子植入機(jī)主要的供廠商為AMAT，中國部份只有中電科電子裝備公司能供應(yīng)。市場預(yù)計今明兩年中國離子植入機(jī)需求可達(dá)5億美元與7億美元。    沉積：PVD沉積為一種物理制程，此技術(shù)一般使用等惰性氣體，藉由在高真空中將離子以加速撞擊濺鍍靶材后，將靶材原子一個個濺擊出來，使被濺擊出來的材質(zhì)沉積在晶圓表面。    薄膜沉積設(shè)備主要的供應(yīng)商包含應(yīng)用材料、Vaportech、LamResearch、ASM、Tokki等。而中國相關(guān)設(shè)備制造廠有北方華創(chuàng)、沈陽拓荊等。北方華創(chuàng)是中國薄膜沉積設(shè)備龍頭，目前技術(shù)已達(dá)到14nm。市場預(yù)計今明兩年中國薄膜沉積設(shè)備需求可達(dá)15億美元與20億美元。    測試：在晶圓完成制造之前，會有一道晶圓中測工序。在測試過程中，會檢測每一個芯片的電路功能。

不銹鋼具有許多優(yōu)良的性能，如導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性、強(qiáng)度、韌性、塑性、耐磨性、可鑄造性等。不銹鋼仍然是重要的結(jié)構(gòu)材料，廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)、生活和科技工作的各個方面。不銹鋼制品在生產(chǎn)和使用過程中，遭受了各種損傷，如機(jī)械磨損、生物損傷、腐蝕等。   

 1、不銹鋼蝕刻的定義    不銹鋼蝕刻機(jī)是不銹鋼在環(huán)境的作用下所引起的破壞或變質(zhì)。不銹鋼的蝕刻還有其他的表述。所謂環(huán)境是指和不銹鋼接觸的物質(zhì)。例如自然存在的大氣、海水、淡水、土壤等，以及生產(chǎn)生活用的原材料和產(chǎn)品。由千這些物質(zhì)和不銹鋼發(fā)生化學(xué)作用或電化學(xué)作用引起不銹鋼的蝕刻，在許多功能情況下還同時存在機(jī)械力、射線、電流、生物等的作用。不銹鋼發(fā)生蝕刻的部分，由單質(zhì)變成化合物，至使生銹、開裂、穿孔、變脆等。因此，在絕大多數(shù)的情況下，不銹鋼蝕刻的過程是冶金的逆過程。