微弧氧化產生的高溫高壓特性可使鋁合金表面氧化膜發(fā)生相轉變和結構轉變。特別對于氧化膜要求很厚的樣品可以分幾次氧化，而陽極氧化一旦中斷就必須重新開始。在微弧氧化的過程下，原來生產的氧化膜不會脫落，只有表面一部分氧化膜可能會被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續(xù)氧化，隨著外加電壓的升高，或時間的延長，微弧氧化膜厚度會不斷增加，直至達到外加電壓所對應的厚度。經測試，微弧氧化膜的厚度可達到200-300μm。微弧氧化技術優(yōu)勢、微弧氧化設備、微弧氧化電源

       微弧氧化技術是近年來發(fā)展起來的一種鋁、鎂合金表面陶瓷化處理技術，它是鋁、鎂合金在電解液中通過高壓電場作用下的放電火花燒結，在其表面生成一層由α-Al2O3 和γ-Al2O3為主要成分并與基體形成冶金結合的氧化鋁（或氧化鎂）陶瓷層，氧化鋁（或氧化鎂）陶瓷層的高硬度、高阻抗和穩(wěn)定性滿足鋁、鎂合金防海水腐蝕和高溫熱蝕以及改善其耐磨性等。微弧氧化技術、微弧氧化設備、微弧氧化生產線、微弧氧化電源的好處、微弧氧化廠家。

微弧氧化技術

      在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在，因此陶瓷層的形成過程非常復雜，至今還沒有一個合理的模型能描述陶瓷層的形成。

      微弧氧化膜層與基體結合牢固，結構致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。鋁制品氧化與不氧化的區(qū)別1、氧化過的鋁在其表面會形成致密氧化膜，因此鋁氧化抗腐蝕性增加，并且熔沸點也會變高，可作為耐熱材料，而不氧化的鋁就沒有這些性質。微弧氧化技術具有操作簡單和易于實現膜層功能調節(jié)的特點，而且工藝不復雜，不造成環(huán)境污染，是一項全新的綠色環(huán)保型材料表面處理技術，在航空航天、機械、電子、裝飾等領域具有廣闊的應用前景。

微弧氧化技術原理

       將工件（鋁、鎂、鈦、鋯及其合金）和不銹鋼（或石墨）板置于電解質水溶液中，工件接電源正極，不銹鋼（或石墨）板接電源負極，電源接通后工件表面發(fā)生陽極鈍化生成高阻kang氧化膜，隨著氧化膜增厚以及外加電壓的不斷增加，高電場強度使得氧化膜內部及表面電荷積累變得嚴重。微弧氧化采用利用顯微硬度儀測量膜層表面顯微硬度曰利用環(huán)境掃描電子顯微鏡對微弧氧化陶瓷膜的表面、截面形貌以及微觀結構進行觀察。固體絕緣材料中空間電荷的存在使得原來的電場發(fā)生畸變，使局部電場加強，導致氧化膜擊穿，產生火花放電。當氧化膜被擊穿后，就會形成基體金屬離子和溶液中活性氧離子等物質擴散轉移的通道，基體金屬離子和氧離子，在電化學、熱化學和等離子體化學的共同作用下，生成氧化物陶瓷。