真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 

周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用；而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經(jīng)過清洗的情況下用油封機(jī)械泵去抽氣，要達(dá)到預(yù)期的真空度很難的。

 真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。加工件進(jìn)入鍍膜室前一定要做到認(rèn)真的鍍前清潔處理，表面污染來自工件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤(rùn)滑油、 機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物，為了避免加工過程中造成的不良，真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。接著是涂上原材料的一道鍍膜，起到打底作用，自然干燥后擦干凈漆面，再做第二道鍍膜，起鞏固鍍膜效果。

塑料在真空鍍膜前為何要涂層？       

大多數(shù)塑料在真空鍍膜之前，一般先要涂覆底涂層，主要原因是有以下幾點(diǎn)：

 一：塑料在成型后，表面肯定有的粗糙度，比如有0.5um的粗糙度。

真空鍍膜層很薄，很難掩蓋基材表面的凹凸不平，如果采用底涂技術(shù)，光固化涂層厚度約10~20um，涂層自身粗糙度在0.1um以下，因此可大大提高鍍層的光亮度。

眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導(dǎo)體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應(yīng)，這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時(shí)還會(huì)產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴(yán)重的污染。多功能化學(xué)氣相沉積加工生產(chǎn)故障是每個(gè)多功能化學(xué)氣相沉積企業(yè)都會(huì)遇到的問題，排除故障是多功能化學(xué)氣相沉積技術(shù)人員的重要職責(zé)。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。