三價鉻對鍍鉻過程有什么影響?

三價鉻對鍍鉻過程有什么影響?答:在鍍鉻過程中，由于鉻酐在陰極上還原，鍍鉻電解液在鍍鉻時產生三價鉻是不可避免的。新配制的鍍鉻液在開始電解時，其三價鉻濃度從零值逐漸增加，由于三價鉻在陽極上氧化而達到平衡。三價鉻是生成膠體膜的主要成分，但是也必須含量適當才能獲得質量良好的鉻層。三價鉻含量過高，生成的膠體膜很致密，獲得光澤鍍層的范圍縮小，得到的鍍層灰白和粗糙，和硫酸含量低或溫度低時所得到的鍍層相似，當三價鉻含量過低時，生成的膠體膜不連續(xù)，使鍍層不均勻，有的地方甚至沒有鍍層，和硫酸含量過高的現(xiàn)象一樣。

為什么雙層鍍鎳能提高鎳層的防護性能?

答:雙層鎳是先沉積一層無硫的(或含硫量較少的)柱狀組織的半光亮鎳(或普通暗鎳)，然后再鍍上一層含硫較高的層狀組織的全光亮鎳層。層鎳的厚度通常占總厚度的2/3左右。鍍層的機械性能主要由韌性較好的半光亮鎳(或普通暗鎳)層決定。兩個鎳層之間，由于含硫量不同，它們的電極電位亦不同。一般說來，層半光亮鎳層的電位比全光亮鎳層更正。若半光亮鎳完全不含硫，那末，光亮鎳與半光亮鎳之間就有一個比較大的電位差(約155MV)。

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發(fā)金屬或化合物的方法

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發(fā)金屬或化合物的方法，通過將蒸發(fā)的原子或分子應用于要電鍍的物體，在表面上形成金屬或化合物的薄膜。在這里，薄膜是指厚度小于1μ的薄膜。工業(yè)應用包括裝飾、包裝紙等，將鋁沉積在金屬光澤上，作為電氣應用，用于電阻和電容器。如果地基不釋放氣體，它可以使用非金屬，而不僅僅是金屬。

此外，真空電鍍的沉積方法包括PVD（物理氣相沉積）和CVD法（化學氣相沉積）。PVD 使用熱和等離子體能量蒸發(fā)固體材料，并將其沉積在基板上。 CVD是一種利用熱和等離子體等能量的氣體，包括薄膜和元素，通過激發(fā)和分解在基板表面吸附和形成薄膜。

電鍍設計考慮因素有哪些?

設計考慮因素：1、電鍍大的功能優(yōu)勢是：在金屬和非金屬零件表面，都可以形成一層全新且光澤度極高的金屬層，直接提升了原零件的視覺檔次。相對于直接用金屬成型零件，成本要低得多。2、對同一部件表面特定區(qū)域進行電鍍，可用的蠟和涂料涂在不需要電鍍的區(qū)域。3、鉻鍍（鍍鉻層）被廣泛用于交通工具和家具產業(yè)的表面處理；汽車、摩托車、自行車、縫紉機、鐘表、家用電器、、儀器儀表、辦公用品、日用五金、家具、量具等的防護與裝飾；