（氧化鐵）是歷早使用的拋光材料，但它的拋光速度慢，而且鐵銹色的污染也無法消除。隨著稀土工業(yè)的發(fā)展，于二十世紀(jì)30年代，首先在歐洲出現(xiàn)了用稀土氧化物作拋光粉來拋光玻璃。在第二次中，一個在伊利諾斯州羅克福德的WF和BarnesJ公司工作的雇員，于1943年提出了一種叫做巴林士粉（Barnesite）的稀土氧化物拋光粉，這種拋光粉很快在拋光精密光學(xué)儀器方面獲得成功。由于稀土拋光粉具有拋光、質(zhì)量好、污染小等優(yōu)點，激起了美國等國家的群起研究。這樣，稀土拋光粉就以取代傳統(tǒng)拋光粉的趨勢迅速發(fā)展起來。

以稀土拋光粉中CeO2量來劃分：

　　稀土拋光粉的主要成分是CeO2,據(jù)其CeO2量的高低可將拋光粉分為兩大類：一類是CeO2含量高的價高質(zhì)優(yōu)的高拋光粉，一般CeO2/TREO≥80%,另一類是CeO2含量低的廉價的低拋光粉，其含量在50%左右，或者低于50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11組成。

因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的拋光粉（包括稀土拋光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級稀土拋光粉，由于在液晶顯示器與電腦光盤領(lǐng)域的應(yīng)用逐漸受到重視，產(chǎn)量逐年提高。納米級稀土拋光粉目前也已經(jīng)問世，隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，其應(yīng)用前景不可預(yù)測，但目前其市場份額還很小，屬于研發(fā)階段。

　　主要指標(biāo)：產(chǎn)品中w（REO）=99%,w（CeO2）=99%;稀土回收率約95%;平均粒經(jīng)1μm~6μm（或粒度為200目~300目），晶形完好。該產(chǎn)品適用于高速拋光。這種高拋光粉早代替了古典拋光的氧化鐵粉（）。

　　1.4.2中系稀土拋光粉的制備

　　用混合稀土氫氧化物（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）為原料，以化學(xué)方法預(yù)處理得稀土鹽溶液，加入中間體（沉淀劑）使轉(zhuǎn)化成w（CeO2）=80%~85%的中級系稀土拋光粉產(chǎn)品。其主要工藝過程為：

　　原料→氧化→優(yōu)溶→過濾→酸溶→沉淀→洗滌過濾→高溫煅燒→細磨篩分→中級系稀土拋光粉產(chǎn)品。主要設(shè)備：氧化槽，優(yōu)溶槽，酸溶槽，沉淀槽，過濾機，煅燒爐，細磨篩分機及包裝機。