卷繞式真空鍍膜機工作原理

現(xiàn)在的真空鍍膜機做得非常專業(yè)性了，有針對車燈產(chǎn)品研發(fā)的，有針對工模具硬質膜研發(fā)的，等等，現(xiàn)在還有一種是針對塑料膜研發(fā)的，卷繞式真空鍍膜機。大家也知道，像包裝紙，塑料袋這些產(chǎn)品，要在其上面鍍膜，還要保證膜層的均勻性，又不會使包裝約塑料袋等產(chǎn)生皺折，于是就研發(fā)出了卷繞式真空鍍膜機，它通過把產(chǎn)品固定并通過卷繞的方法，在產(chǎn)品上鍍膜，鍍出來的膜層只有0.01到0.2μm的厚度而已。商標印刷機在真空鍍膜機的真空室中分為上下兩個部分，而下面的又分為左右兩個部分，在下面的左右兩邊底下都放置著一個蒸發(fā)源，在蒸發(fā)源上放這靶材材料，當啟動蒸發(fā)源后通過電阻加熱把靶材蒸發(fā)上升到產(chǎn)品上沉積成膜，另外在產(chǎn)品不成膜的另一邊放置輝光放電發(fā)生器，產(chǎn)生放電氣體，使產(chǎn)品不會產(chǎn)生皺折。對于那些容易皺折的產(chǎn)品的鍍膜，卷繞式真空鍍膜機確實是一種非常好的設計。

卷繞式真空鍍膜機具有運行平穩(wěn)、收放鍍膜平齊、膜層均勻、生產(chǎn)周期短、能耗低、操作維護方便、性能穩(wěn)定等特點。卷繞系統(tǒng)采用直流或交流變頻調速，具有運行平穩(wěn)、速度高、對原卷材不劃傷、不折皺，收卷端面整齊等特點；張力控制采用進口數(shù)字張力控制系統(tǒng)，具有張力、線速度恒定，運作快速的特點；強勁的抽真空系統(tǒng)，配備節(jié)能維持泵。

真空電鍍設備膜厚的不均勻問題

無論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果真空電鍍設備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現(xiàn)為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現(xiàn)而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空室的結構和蒸發(fā)源的恰當選擇可以使這些影響化。

在過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜系統(tǒng)制造廠家提供的小規(guī)格、簡便型光學鍍膜系統(tǒng)，同時，用戶對性能的要求不僅沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化化等方面。

現(xiàn)在，系統(tǒng)的平均尺寸規(guī)格已經(jīng)在降低，而應用小規(guī)格設備進行光學鍍膜的生產(chǎn)也已經(jīng)轉變成為純技術問題。因此，選用現(xiàn)代化光學鍍膜系統(tǒng)的關鍵取決于對以下因素的認真考慮：對鍍膜產(chǎn)品的預期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。

金屬帶鍍膜設備

HCMRC系列采用模塊化設計，是用于薄膜鍍膜的靈活生產(chǎn)工具。通過我們各種技術的獨特組合，可以生產(chǎn)高反射膜、高吸收膜和裝飾性鍍膜。此外，為了更廣泛的應用，我們還可以沉積防觸摸膜層或者防腐膜層。

不銹鋼帶卷繞鍍膜設備采用公司新開發(fā)的磁控濺射鍍膜技術、陰極電弧離子鍍膜技術及獨特設計的離子源輔助沉積鍍膜技術等多種技術組合，成功應用在大卷徑寬幅高真空連續(xù)卷繞鍍膜設備中，可正反面鍍制裝飾性膜層和防腐蝕膜層，改善金屬卷材表面特性，擴展應用范圍。

模塊化設計概念，帶材糾偏系統(tǒng)、等離子體預處理、磁控濺射系統(tǒng)、在線測量和工藝控制系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)靈活組合。膜層均勻性好，沉積，鍍膜速度快，是大型不銹鋼卷連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線的良好選擇。

pvd裝飾鍍膜有哪些優(yōu)點?

pvd裝飾鍍膜有哪些優(yōu)點？ PVD鍍膜(離子鍍膜)技術的主要特點和優(yōu)勢—和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點： A.膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨B.離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件0v R0S4C.膜層沉積速率快，生產(chǎn)D.可鍍膜層種類廣泛E.膜層性能穩(wěn)定、安全性高(獲得FDA認證). 鍍膜設備鍍出的產(chǎn)品掉膜是怎么回事?一、產(chǎn)品表面潔凈度不夠，離子源清洗氣放大時間長點。二、清洗是否有加了清洗劑，或者更換了清洗劑，建議用純水先試一下。三、工藝參數(shù)是否有變動在膜厚和電流上可以做點調整。