不銹鋼真空鍍鈦產(chǎn)品的日常保養(yǎng)

清洗時注意不要用粗糙或尖銳的物料去擦洗產(chǎn)品表面，特別是鏡光的，要用柔軟一點的、不易脫毛的絨布去擦洗，砂鋼和拉絲表面，要順著紋路去擦，不然很容易搞花表面。

3、表面有灰塵以及易除掉污垢物的，可用絨布、清水來清洗；對于粘結(jié)劑成份，使用酒精和（、苯）擦洗。

4、表面的油脂、油、潤滑油污染，用絨布擦干凈以后用中性洗滌劑、或用專用洗滌劑清洗。

PVD (Physical Vapor Deition) 即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說的PVD鍍膜 ，指的就是真空離子鍍膜；通常說的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍。通過鍍鈦可以改變不銹鋼板表面的顏色，金黃色、玫瑰金、鈦金色、黑色、青古銅、紅古銅等等，選擇多樣，完全可以根據(jù)客戶的喜好來，自由度高，適用于各種風(fēng)格不同的場合。真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

離子鍍時，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。在靶材和襯底之間加上一個直流高壓，極板間的氣體（一般為Ar2）電離，高速帶電離子轟擊靶材表面的濺射鍍膜技術(shù)。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動半徑范圍內(nèi)的任何地方。

磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種新型濺射鍍膜法,由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點,因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應(yīng)用.

1. 磁控濺射:

離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現(xiàn)象稱為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實現(xiàn)濺射鍍膜.

磁控濺射的基本原理:

磁控濺射是在濺射區(qū)加了與電場方向垂直的磁場,處于正交電場區(qū)E和磁場B中的電子的運動方程,