建筑玻璃有透光和隔熱兩個(gè)基本功能。普通玻璃能透過(guò)絕大部分太陽(yáng)光輻射能量，這對(duì)采光和吸收太陽(yáng)光線的能量十分有利。而對(duì)于空間紅外輻射，普通玻璃雖能阻止室內(nèi)的熱量直接透過(guò)室外，但熱量被玻璃吸收后的二次散熱也會(huì)造成很大的損失。隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，普通玻璃已越來(lái)越不能滿足人們的要求。而陽(yáng)光控制膜和低輻射膜正好能彌補(bǔ)了普通玻璃在這一方面的不足。

       生活中我們會(huì)看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等，這些就是經(jīng)過(guò)派瑞林鍍膜技術(shù)加工后的涂層工具。金黃色的是在刀具上涂鍍了TiN、ZrN 涂層。TiN是代應(yīng)用廣泛的硬質(zhì)層材料。黑色的是在切削工具上涂了TiC、CrN涂層。鈷銅色的是在刀具上鍍涂了TiALN涂層。

       釹鐵硼稀土磁性材料是一種問(wèn)世不久的新型強(qiáng)磁材料。目前國(guó)內(nèi)常用兩種方法進(jìn)行防護(hù)，一種是傳統(tǒng)的電鍍工藝在 鐵硼磁性材料表面鍍上鎳、鋅或錫、金等。這些涂層有時(shí)會(huì)影響磁性材料的表磁等特性，有的在鹽霧試驗(yàn)時(shí)仍不能對(duì)釹鐵硼磁性材料提供有效的防護(hù)。另一種方法是用環(huán)氧樹脂材料進(jìn)行電泳涂敷，但電泳涂敷時(shí)工件表面必須有一掛點(diǎn)，掛點(diǎn)的修補(bǔ)不僅費(fèi)工費(fèi)時(shí)，而且質(zhì)量難以保證，而Parylene涂層技術(shù)可控制涂層厚度進(jìn)行無(wú)支點(diǎn)全涂敷防護(hù)。派瑞林（Parylene）又是一種透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料，目前國(guó)外小型釹鐵硼稀土磁性材料都已采用派瑞林（Parylene）進(jìn)行防護(hù)。

       用制備派瑞林的方法是化學(xué)氣相沉積法(CVD)，反應(yīng)物質(zhì)在氣態(tài)條件下發(fā)生空間氣相化學(xué)反應(yīng)，在固態(tài)基體表面直接生成固態(tài)物質(zhì)，進(jìn)而在基材表面形成涂層的一種工藝技術(shù)。派瑞林薄膜制備過(guò)程為環(huán)狀二聚體在高溫下兩個(gè)相連碳碳鍵斷裂，生成具有活性的對(duì)二亞苯單體，當(dāng)其從高溫環(huán)境進(jìn)入室溫環(huán)境的沉積室時(shí)，不穩(wěn)定的單體就會(huì)聚合成膜。整個(gè)制備工藝過(guò)程分為三步：?jiǎn)误w的汽化、裂解、在基材表面進(jìn)行附著沉積。

1、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于磁性材料領(lǐng)域，派瑞林的制備工藝和優(yōu)異性能相結(jié)合，使它能對(duì)小型超小型磁材進(jìn)行無(wú)薄弱點(diǎn)全涂敷的磁材可浸鹽酸10天以上不腐蝕，目前國(guó)際上小型或者超小型磁材，幾乎都采用派瑞林鍍膜工藝作絕緣和防護(hù)涂層。

2、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于印制電路組件和元器件領(lǐng)域，鍍膜材料通過(guò)派瑞林真空鍍膜設(shè)備使得活性的對(duì)二雙游離基小分子氣在印制電路組件表面沉積聚合完成。氣態(tài)的小分子能滲透到包括貼裝件下面任何一個(gè)細(xì)小縫隙的基材上沉積，形成分子量約50萬(wàn)的高純聚合物。

3、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于微電子集成電路領(lǐng)域，派瑞林的真空氣相沉積工藝不僅和微電子集成電路制作工藝相似，而且所制備的派瑞林涂層介電常數(shù)也低，還能用微電子加工工藝進(jìn)行刻蝕制圖，進(jìn)行再金屬化，因此派瑞林（Parylene）不僅可用作防護(hù)材料，而且也能作為結(jié)構(gòu)層中的介電材料和掩膜材料使用，經(jīng)派瑞林（Parylene）涂敷過(guò)的集成電路芯片，其25um細(xì)直徑連接線，連接強(qiáng)度可提高5-10倍。