為了進(jìn)行化學(xué)拋光，必須使零件表面的凸部比凹部優(yōu)先溶解，因此應(yīng)將化學(xué)拋光的作用分為兩個階段來認(rèn)識。一階段是化學(xué)拋光時金屬表面現(xiàn)象的幾何凸凹的整平，去除較粗糙的表面不平度，獲得平均為數(shù)微米到數(shù)十微米的光潔度；第二階段是晶界附近的結(jié)晶不完整部分的平滑化，去除微小的不平，在0.1～0.01μm，相當(dāng)于光波長的范圍?？蓪㈦A段稱為宏觀拋光或平滑化，把第二階段稱為微觀拋光或光澤化。

化學(xué)拋光（銅化學(xué)拋光劑）

 機(jī)械拋光是利用機(jī)械壓力和局部摩擦產(chǎn)生高溫作用而獲得平滑的非晶型面。化學(xué)拋光與機(jī)械拋光不同，前者是利用化學(xué)溶液對金屬表面起溶解作用，而這種溶解作用是基于對金屬表面凸起部分溶解速度遠(yuǎn)比凸陷部分快的假設(shè)的基本之上的?；瘜W(xué)拋光比機(jī)械拋光相對優(yōu)越，表面在其操作方便、設(shè)備簡單、費用低且節(jié)省電力。

化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點是不需復(fù)雜設(shè)備，可以拋光形狀復(fù)雜的工件，可以同時拋光很多工件，。化學(xué)拋光的核心問題是拋光液的配制。化學(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm。

不銹鋼表面處理拋光的方法，化學(xué)拋光，化學(xué)拋光是把零件浸入適當(dāng)?shù)娜芤褐?，因溶液對表面凸出部位比凹下部位溶解快，從而使表面整平，達(dá)到拋光目的。一般來說，化學(xué)拋光的拋光能力較差，只能少量提高光亮度。但比機(jī)械拋光省力、省時，且能夠?qū)π⌒土慵膬?nèi)表面進(jìn)行拋光。近來也有報道采用加入光亮劑的辦法可使18—8型奧氏體不銹鋼表面拋至鏡面光亮

化學(xué)拋光是在不供電情況下產(chǎn)生拋光效果，其拋光原理與利用電流作用的電解拋光在本質(zhì)上沒有太大差別。

化學(xué)拋光是不銹鋼常用的表面處理工藝，與電化學(xué)拋光工藝相比，其優(yōu)點是不需要直流電源和特殊夾具，可以拋光形狀復(fù)雜的零件，生產(chǎn)率很高。

化學(xué)拋光溶液的基本組成包括腐蝕劑、氧化劑和水。腐蝕劑是主要成份，如果不銹鋼在溶液溶解，拋光便不能進(jìn)行。氧化劑和添加劑可抑制過程，使反應(yīng)朝有利于拋光的方向進(jìn)行。