鍍硬鉻廠家介紹鉻酐的水溶液是鉻酸，是鉻鍍層的來源。實(shí)踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內(nèi)變化。例如，當(dāng)溫度在45～50℃，Dk=10A／dm2時(shí)，鉻酐濃度在50～500g／L范圍內(nèi)變化，甚至高達(dá)800g／L，均可獲得光亮鍍鉻層。一般生產(chǎn)中采用的鉻酐濃度為150～400g／L之間。鉻酐的濃度對(duì)鍍液的電導(dǎo)率起決定性作用，鍍液溫度升高，電導(dǎo)率隨鉻酐濃度增加向稍高的方向移動(dòng)。因此，單就電導(dǎo)率而言，宜采用鉻酐濃度較高的鍍鉻液。但采用高濃度鉻酸電解液時(shí)，由于隨工件帶出損失嚴(yán)重，不僅造成材料的浪費(fèi)，更主要的是會(huì)造成嚴(yán)重的環(huán)境污染。而低濃度鍍液對(duì)雜質(zhì)金屬離子比較敏感，覆蓋能力較差。鉻酐濃度過高或過低都將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。鉻酐濃度低的鍍液陰極電流效率較高，多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍，鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關(guān)，蕞主要的取決于鉻酐和硫酸的比值。一般控制Cr03：SO42-=(80～100)：1，蕞佳值為100：1。當(dāng)SO42-含量過高時(shí)，對(duì)膠體膜的溶解作用強(qiáng)，基體露出的面積大，真實(shí)電流密度小，陰極極化小，得到的鍍層不均勻、發(fā)花，特別是工件凹處還可能露出基體金屬。當(dāng)SO42-含量過低時(shí)，陰極表面只有很少部位的膜被溶解，即成膜的速度大于溶解的速度，鉻的析出受阻或在局部地區(qū)放電長大，所以，鍍層發(fā)灰粗糙，光澤性差。

鍍鉻層的油附性不好，油很難在完整、光滑的鉻層上形成油膜，當(dāng)潤滑不好時(shí)，局部易出現(xiàn)干摩擦現(xiàn)象，難以電鍍處既有較高硬度、又有較大厚度的鉻層，一般的鍍鉻修復(fù)工藝包括：鍍銅—鍍鎳—鍍鉻。

需要注意的是，上述修復(fù)流程不可少，也就是說直接在模具工作面型鍍鉻，要先鍍銅處理再鍍鎳，后面才是鍍鉻。

在汽車行業(yè)。以日本為首。包括美國、韓國等都相繼引入了模具鍍鉻處理，使用后制件的返修率呈現(xiàn)非常明顯降低趨勢(shì)。降低了模具維修的工時(shí)。

真空電鍍產(chǎn)品如何除油？

真空電鍍產(chǎn)品如何除油？

真空電鍍等耐堿性材料的零件可使用強(qiáng)堿性清洗液，真空電鍍除油溫度也可以較高，以便提高除油的效率和速度，而對(duì)鋅、鋁、銅等材料的零件等不能使用等強(qiáng)堿性溶液，溫度也不能太高以免產(chǎn)生腐蝕，真空電鍍?cè)谑褂糜菜渲频乃釅A洗液時(shí)，應(yīng)加入絡(luò)合劑。一般的堿液除油后，真空電鍍零部件的表面尚未達(dá)到表面處理要求的出貨標(biāo)準(zhǔn)，真空電鍍還必須進(jìn)行電解脫脂處理工藝后才能達(dá)到出貨要求或者進(jìn)行下一個(gè)工序。