單工位噴淋清洗機(jī)

其特征在于，包括底座(I)、位于所述底座(I)上方的上料箱(2)、設(shè)于所述上料箱(2)—側(cè)的噴淋清洗裝置(3)和儲液槽(4)、用于夾緊待清洗的罐體的機(jī)械手、用于驅(qū)動所述機(jī)械手的驅(qū)動裝置以及控制系統(tǒng)，其中，所述儲液槽(4)內(nèi)設(shè)有撇油機(jī)構(gòu)，頂部安裝有重力油水分離裝置，側(cè)壁可活動的連接有集油盒。根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單工位噴淋清洗機(jī)，其特征在于，所述上料箱(2)與所述底座(I)為一體式結(jié)構(gòu)。根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種單工位噴淋清洗機(jī)，其特征在于，所述上料箱(2)為方形的箱式結(jié)構(gòu)，在所述上料箱(2)的一側(cè)面設(shè)有氣動門板，所述氣動門板用于打開或閉合所述上料箱(2)。根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種單工位噴淋清洗機(jī)，其特征在于，所述驅(qū)動裝置為齒輪減速電機(jī)。根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種單工位噴淋清洗機(jī)，其特征在于，所述噴淋清洗裝置(3)包括噴淋栗、與所述噴淋栗連接的旋轉(zhuǎn)接頭以及與所述旋轉(zhuǎn)接頭連接的噴嘴。根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種單工位噴淋清洗機(jī)，其特征在于，所述上料箱(2)內(nèi)設(shè)置有清洗腔，所述清洗腔的底面傾斜預(yù)設(shè)角度，用于減少所述清洗腔內(nèi)的液體殘留。7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一所述的一種單工位噴淋清洗機(jī)，其特征在于，所述底座(I)和所述上料箱(2)均由不銹鋼材料制成。

單工位旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)，包括主體、主體中間的固定機(jī)構(gòu)和主體底端的拆卸機(jī)構(gòu)，所述固定機(jī)構(gòu)包括固定柱，所述主體的頂端設(shè)置有頂殼，所述頂殼的中間設(shè)置有操作門，所述固定柱位于操作門的內(nèi)側(cè)兩端，所述操作門的一側(cè)對應(yīng)于固定柱的位置處設(shè)置有連接螺栓，所述連接螺栓的一側(cè)中間對應(yīng)于固定柱的內(nèi)部設(shè)置有齒輪，所述頂殼的內(nèi)部兩側(cè)對應(yīng)于固定柱的位置處設(shè)置有固定桿，所述固定柱的內(nèi)部兩側(cè)對應(yīng)于齒輪的位置處設(shè)置有齒槽。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：

1.通過齒輪和固定柱的設(shè)置，有效的使得旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)關(guān)閉操作門更加便利，只需旋轉(zhuǎn)齒輪帶動固定柱卡合固定，不僅使用簡便便利，同時(shí)節(jié)省了時(shí)間，使得密封效果較好，有效的放置了旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)內(nèi)部水源的泄漏，且旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)清洗后工件表面干凈，性能穩(wěn)定，操作簡單，使用壽命長，無死角噴淋，讓工件表面及內(nèi)部無污物殘留，降低了工作難度，減少了經(jīng)濟(jì)損失。

2.限位滑槽和限位板的設(shè)置，有效的使得旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)檢測維修更加方便，限位板只需通過限位滑槽便可簡單的拆卸，使得旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)內(nèi)部展現(xiàn)出，降低了工作難度，節(jié)省了時(shí)間，增加了旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)的使用壽命，增加了工作效率和經(jīng)濟(jì)效益。

轉(zhuǎn)動自噴清洗機(jī)介紹 1.機(jī)器設(shè)備特性 1.1本機(jī)器設(shè)備依據(jù)待洗零件類型多，總數(shù)少的特性，選用單工位式清洗、烘干的方法； 1.2零件經(jīng)人力手推式進(jìn)到清洗室，布局在清洗腔房間內(nèi)的自噴管對產(chǎn)品工件作大流量自噴，遮蓋無盲點(diǎn)； 1.3清洗選用持續(xù)噴洗式，清洗沖洗力強(qiáng)悍。 此方式適用去除空氣氧化膜或有機(jī)物。由于化合物在單晶硅片表面滯留的時(shí)間較為短，對反映必須一定時(shí)間的清洗實(shí)際效果不太好。在噴洗全過程中所應(yīng)用的化學(xué)藥品非常少，對操縱成本費(fèi)及生態(tài)環(huán)境保護(hù)有益。 伴隨著集成電路芯片工藝加工工藝連接點(diǎn)愈來愈，對具體生產(chǎn)制造的好多個(gè)階段也明確提出了新規(guī)定，清洗階段的必要性日漸突顯。 清洗的至關(guān)重要則是因?yàn)榘殡S著特點(diǎn)規(guī)格的持續(xù)變小，半導(dǎo)體材料對雜質(zhì)成分愈來愈比較敏感，而半導(dǎo)體設(shè)備中難以避免會導(dǎo)入一些顆粒、有機(jī)物、金屬材料和金屬氧化物等空氣污染物。為了更好地降低雜質(zhì)對處理芯片合格率的危害，具體生產(chǎn)制造中不僅必須提升 一次的清洗，還必須在基本上所有制性質(zhì)程前后左右都經(jīng)常的開展清洗，清洗流程約占總體流程的33%。

此裝置一方面采用的水霧式噴淋，摒棄了普通打水管水量大，易積水的缺點(diǎn)，另一方面以可移動小推車的形式，使用輕便牢靠水管與快速接頭，隨用隨收，靈活機(jī)動，解決了處理場場地水管布排困難的問題且不影響來往車輛。同時(shí)該裝置只需一人負(fù)責(zé)開啟與關(guān)閉，便可兼做其他工作，很大程度的減少了人工，也達(dá)到了全天降塵的效果。現(xiàn)投入的八個(gè)噴淋點(diǎn)與購買專業(yè)廠家的防塵設(shè)備相比，總費(fèi)用由數(shù)十萬元降到三千元，小發(fā)明，也能帶來大效果！目前，該裝置現(xiàn)已移交給鋼渣處理場投入使用，相應(yīng)的操作規(guī)定已制定好并補(bǔ)充到安環(huán)體系文件中。