電鍍電鍍過(guò)程是將磁體接到直流電源陰極，浸入含有鍍層材料陽(yáng)離子的溶液中，陽(yáng)離子在電場(chǎng)作用下會(huì)遷移到陰極并轉(zhuǎn)化成金屬原子結(jié)晶到磁體表面。燒結(jié)釹鐵硼常用的有鍍鋅和鍍鎳，以及鎳銅鎳復(fù)合鍍。鋅在干燥空氣中比較穩(wěn)定，在潮濕空氣或含氧的水中則會(huì)生成碳酸鋅薄膜，可延緩鋅的腐蝕速度，但在酸堿鹽溶液、海洋性大氣、高溫高濕空氣中耐腐蝕性較差，鈍化處理可顯著提升鋅鍍層的耐蝕性。鎳容易與空氣中的氧形成極薄的鈍化膜，在常溫下對(duì)大氣、堿和一些酸有很好的耐腐蝕性，因此鍍鎳成為燒結(jié)釹鐵硼zui普遍的電鍍方式。

不同的不銹鋼表面處理工藝，能夠讓同樣的材質(zhì)凸顯不同的視覺(jué)效果及手感特征。從設(shè)計(jì)的角度出發(fā)，需要了解下面這七種不銹鋼的表面處理工藝。1.PVD工藝PVD(PhysicalVaporDepsition)---物理氣相沉積：指利用物理過(guò)程實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過(guò)程。它的作用是可以使某些有特殊性能（強(qiáng)度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。PVD基本方法：真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應(yīng)離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）。

電弧離子鍍陰極弧技術(shù)是在真空條件下，通過(guò)低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態(tài)，從而完成薄膜材料的沉積，該技術(shù)材料的離化率更高，薄膜性能更加優(yōu)異。過(guò)濾陰極弧過(guò)濾陰極電弧(FCA)配有g(shù)ao效的電磁過(guò)濾系統(tǒng)，可將弧源產(chǎn)生的等離子體中的宏觀大顆粒過(guò)濾掉，因此制備的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與機(jī)體的結(jié)合力很強(qiáng)。離子束離子束加工是在真空條件下，先由電子槍產(chǎn)生電子束，再引入已抽成真空且充滿惰性氣體之電離室中，使低壓惰性氣體離子化。由負(fù)極引出陽(yáng)離子又經(jīng)加速、集束等步驟，獲得具有一定速度的離子投射到材料表面，產(chǎn)生濺射效應(yīng)和注入效應(yīng)。