為了進(jìn)行化學(xué)拋光，必須使零件表面的凸部比凹部?jī)?yōu)先溶解，因此應(yīng)將化學(xué)拋光的作用分為兩個(gè)階段來(lái)認(rèn)識(shí)。一階段是化學(xué)拋光時(shí)金屬表面現(xiàn)象的幾何凸凹的整平，去除較粗糙的表面不平度，獲得平均為數(shù)微米到數(shù)十微米的光潔度；第二階段是晶界附近的結(jié)晶不完整部分的平滑化，去除微小的不平，在0.1～0.01μm，相當(dāng)于光波長(zhǎng)的范圍?？蓪㈦A段稱為宏觀拋光或平滑化，把第二階段稱為微觀拋光或光澤化。

 化學(xué)拋光，是金屬零件在特定條件下的化學(xué)浸蝕。在這一浸蝕過(guò)程中，金屬表面被溶液浸蝕和整平，從而獲得了比較光亮的表面。

 化學(xué)拋光可以用于儀器、鋁質(zhì)反光鏡的表面精飾，以及其它零件或鍍層的裝飾性加工。

化學(xué)拋光的優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，不需要什么特殊設(shè)備，只需要一個(gè)盛拋光液的玻璃杯和夾持試樣的夾子就可以了。如果用細(xì)薄磨料片切割的試樣，切割后不需要砂紙磨光，即可直接拋光。有些非導(dǎo)體材料也可以用化學(xué)拋光，非導(dǎo)體嵌鑲的試樣也可以直接拋光。化學(xué)拋光也可以處理形狀比較復(fù)雜的零件。

同電解拋光比較，化學(xué)拋光的優(yōu)點(diǎn)是：不需外加電源，可以處理形狀更為復(fù)雜的零件，生產(chǎn)等，但是化學(xué)拋光的表面質(zhì)量，一般略低于電解拋光，溶液的調(diào)整和再生也比較困難，往往拋光過(guò)程中會(huì)析出氧化氮等有害氣體。

化學(xué)拋光是在不供電情況下產(chǎn)生拋光效果，其拋光原理與利用電流作用的電解拋光在本質(zhì)上沒(méi)有太大差別。

化學(xué)方法拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，能夠處理直徑比較小的細(xì)管、帶有深孔的形狀復(fù)雜的零件。多數(shù)金屬的化學(xué)拋光溶液都采用各種酸，生產(chǎn)過(guò)程中散發(fā)出大量酸霧污染環(huán)境，在使用上受到一定的限制。

化學(xué)拋光工藝有哪些特點(diǎn)？

首先，化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，無(wú)需電源設(shè)備。其次，化學(xué)拋光工藝不受制件外形尺寸限制，拋光速度快，生產(chǎn)。因?yàn)檫@些原因，化學(xué)拋光工藝也使得加工成本低廉。

化學(xué)拋光的優(yōu)點(diǎn)是：不需外加電源,可以處理形狀更為復(fù)雜的零件,生產(chǎn)等.但是化學(xué)拋光的表面質(zhì)量,一般略低于電解拋光,溶液的調(diào)整和再生也比較困難,往往拋光過(guò)程中會(huì)析出氧化氮等有害氣體。