公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務！

光刻版在使用過程中不可避免的會粘上灰塵、光刻膠等污染物，這些污染物的存在直接影響到光刻的效果。為了保證光刻版潔凈，必須定期對光刻版進行清洗，而清洗的效果與清洗工藝以及各清洗工藝在設備上的合理配置有著密切的聯(lián)系。

使用鉻刻蝕液進行濕法刻蝕，將暴露出的鉻層刻蝕掉形成透光區(qū)域，而受光刻膠保護的鉻層不會被刻蝕，形成不透光區(qū)域。這樣便在掩膜版上形成透光率不同的平面圖形結(jié)構(gòu)。

在有必要的情況下，使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層，并對掩膜版進行清洗。

烤版時還要注意：①烤版箱內(nèi)的紅外燈管一定要橫向排列，如縱向排列，往往導致印版瓦楞狀變形而影響使用。②烤版膠濃度要合適，如烤版膠太稠，烤版效果和上墨效果也不會令人滿意；如烤版膠太稀，烤出的版容易上臟。通過光刻制版工藝，將微米級和納米級的精細圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。③烤版溫度不能過高，溫度過高也會導致鋁版基韌化和發(fā)軟，樹脂層焦化，影響耐印力?？景鏁r間太長易導致印版上臟，烤版時間太短達不到烤版的效果?？瓷先ブ瓢婀に嚥皇翘珡碗s，但要想制作出合格的印版，確實需要操作人員用心曬版，用心加工印版。

光刻掩膜版材質(zhì)可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時所常用的光刻掩膜版。

石英掩膜版

使用石英玻璃為基板材料，光學透過率高，熱膨脹率低，相比蘇打玻璃更為平整和耐磨，使用壽命長，主要用于掩膜版

使用蘇打玻璃作為基板材料，光學透過率較高，熱膨脹率相對高于石英玻璃，平整度和耐磨性相對弱于石英玻璃，主要用于中低精度掩膜版