【廣告】
1、目的:
測量研磨盤的平面度是為了確認研磨盤修面后的狀態(tài),確保研磨盤面形精度能滿足生產(chǎn)工藝需求。研磨盤面形精度不符合要求時會導(dǎo)致產(chǎn)品研磨時受力不均,磨出來的產(chǎn)品出現(xiàn)高低不平等不良現(xiàn)象!測量研磨盤平面度是保證批量生產(chǎn)產(chǎn)品品質(zhì)的重要管控手段之一!
2、適用范圍:
適用于市場上現(xiàn)有樹脂銅盤、樹脂鐵盤、合成錫盤、壓鑄盤等研磨盤。
正確處理研磨的運動軌跡是提高研磨質(zhì)量的重要條件。在平面研磨中﹐一般要求﹕①工件相對研具的運動﹐要盡量保證工件上各點的研磨行程長度相近﹔②工件運動軌跡均勻地遍及整個研具表面﹐以利于研具均勻磨損﹔③運動軌跡的曲率變化要小﹐以保證工件運動平穩(wěn)﹔④工件上任一點的運動軌跡盡量避免過早出現(xiàn)周期性重復(fù)。為了減少切削熱﹐研磨一般在低壓低速條件下進行。
用途
用于材料拋光的物質(zhì),可用于拋光玻璃、金屬、皮革、半導(dǎo)體、塑料,寶石.玉器.不銹鋼的研磨拋光等。生產(chǎn)研磨材料,磨料,磨具和拋光材料的生產(chǎn)廠家有天津市瑞達鑫華研磨材料有限公司。
如玻璃拋光采用氧化鐵紅、二、氧化鋁、氧化、碳酸鋇、白堊、陶土、硅藻土等粉狀混合物,與水等配合成懸浮液后使用。
金屬和塑料拋光等用固體油膏。