等離子拋光作為一種新的拋光工藝,是不銹鋼拋光的一種發(fā)展趨勢(shì)。如果能好的利用等離子拋光將為我們節(jié)省很多時(shí)間和成本。

等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi)，因此等離子納米拋光處理可以化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面在化學(xué)物質(zhì)。

拋光一般采用手工拋光,或者是手工拋光和等離子拋光結(jié)合。手工拋光即手工打磨,靠產(chǎn)品和麻,線,布輪的摩擦作用手工拋光工藝缺點(diǎn)明顯。手工拋光效率是很慢的,工人工資也很高。而且拋光是個(gè)對(duì)人體傷害很大的行業(yè)。拋光工人 的管理非常頭疼,工人自由散漫,流動(dòng)性強(qiáng)。

等離子拋光也稱電漿拋光.主要用于五金件產(chǎn)品的拋光以及真空鍍膜的前處理,在表面處理行業(yè)屬于新的工藝,本文將在等離子拋光的工作原理,應(yīng)用優(yōu)勢(shì)以及在表面處理行業(yè)的應(yīng)用來說明它與真空鍍膜的協(xié)調(diào)性.

隨著環(huán)保意識(shí)日漸加強(qiáng)，傳統(tǒng)拋光工藝已難以滿足行業(yè)對(duì)、綠色環(huán)保、低成本生產(chǎn)的要求。倍亮拋光等離子系列為行業(yè)提供了一個(gè)、環(huán)保的表面優(yōu)化解決方案。

等離子拋光技術(shù)中利用穩(wěn)定、自由的等離子，可到達(dá)手工/機(jī)械研磨所到不了的遮蔽位，進(jìn)行、無死角、高精度打磨，表面粗糙度Ra＜0.09μm。

傳統(tǒng)機(jī)械研磨由于利用離心力帶動(dòng)顆粒打磨，工件不可抵抗地受到強(qiáng)大外力撞擊，往往導(dǎo)致出現(xiàn)變形的情況。加之因研磨顆粒較大難以到達(dá)工件遮蔽位，令很多細(xì)節(jié)得不到打磨。