等離子拋光作為一種新的拋光工藝,是不銹鋼拋光的一種發(fā)展趨勢(shì)。如果能好的利用等離子拋光將為我們節(jié)省很多時(shí)間和成本。

等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi)，因此等離子納米拋光處理可以化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面在化學(xué)物質(zhì)。

等離子就是在高溫高壓下,拋光鹽水溶,在高溫高壓下,電子會(huì)脫離原子核而跑出來(lái),原子 核就形成了一個(gè)帶正電的離子,當(dāng)這些離子達(dá)到一定數(shù)量的時(shí)候可以成為等離子態(tài),等離子態(tài)能量很大,當(dāng)這些等離子和要拋光的物體摩擦?xí)r,頃刻間會(huì)使物體達(dá)到表面光亮的效果。對(duì)工件的任何一個(gè)面都能拋光。

等離子拋光加工廠家

提高生產(chǎn)效率。半自動(dòng)、全自動(dòng)環(huán)保等離子納米拋光設(shè)備通過(guò)藥劑可在十幾秒到兩分鐘內(nèi)達(dá)到電鍍鏡面效果，大大提高了生產(chǎn)效率。

等離子拋光所產(chǎn)生的表面電流密度與液態(tài)電打磨相當(dāng)，但由倍亮拋光自主研發(fā)的等離子拋光技術(shù)，其材料去除速度為1μm/min，是液態(tài)電打磨的10-30倍。

我們研發(fā)并應(yīng)用無(wú)毒的拋光鹽來(lái)產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子體，不僅獲取均勻一致的拋光效果，更避免了對(duì)人體有害的工作環(huán)境。低濃度的等離子液對(duì)環(huán)境友好，有效規(guī)避因污染環(huán)境帶來(lái)的經(jīng)濟(jì)損失。

與傳統(tǒng)拋光工藝相比，環(huán)保等離子納米拋光工藝的優(yōu)勢(shì)主要表現(xiàn)在：

減輕環(huán)保壓力。輝碟自動(dòng)化可以有限公司所使用的納米拋光液非常環(huán)保，其廢液可以直接排放而不會(huì)造成污染，也可以稍作處理回收利用。納米拋光加工費(fèi)用低，有利于推廣，并且對(duì)加工環(huán)境無(wú)污染，適應(yīng)綠色制造的發(fā)展方向。

全新拋光配方，針對(duì)金屬打印、鑄造、切削等工件拋光。穩(wěn)定、自由的納米級(jí)等離子，直達(dá)工件表面凹處及死角位進(jìn)行精細(xì)拋光，獲得均勻的亮度表現(xiàn)。