潔凈室中的溫濕度控制潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。有的工程中由于加濕的帶水問題沒有處理好，結(jié)果后面的中效過濾器甚至效過濾器都被攜帶的水打濕了。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。

凈化工程是一個應(yīng)用行業(yè)非常廣泛的基礎(chǔ)性配套產(chǎn)業(yè)，（21世紀(jì)）在電子信息、半導(dǎo)體、光電子、精密制造、衛(wèi)生、生物工程、航天航空、汽車噴涂等眾多行業(yè)均有應(yīng)用，并根據(jù)行業(yè)的精密與無塵要求，等級差別也較大。對于平行流潔凈室《習(xí)慣上稱層流潔凈室），由于主要靠氣流的“活塞打擠壓作用排除行染，所以截面上的速度就是非常重要的指標(biāo)。目前級別的當(dāng)屬航天航空的航空倉，基本是屬于1級，屬于特殊領(lǐng)域，面積相對較小。凈化車間另外對級別要求較高的是生化實驗室和高精納米材料生產(chǎn)車間，物聯(lián)網(wǎng)芯片的發(fā)展將是未來需求的一大方向。

但是，事與愿違，不但加不進去濕量而且加進去的還會很快飽和變?yōu)槟Y(jié)水析出來，而達不到加濕目的。它可以大大地縮小機房的面積，水冷柜機可以根據(jù)具體的情況布置于較小機房內(nèi)或凈化車間內(nèi)，增壓風(fēng)柜也可以布置于機房內(nèi)或吊在機房內(nèi)或在夾層內(nèi)。因為，濕膜和高壓噴霧屬等焓加濕過程，加濕前的空調(diào)空氣必須加熱到一定溫度后再加濕才能達到加濕目的。如果不進行加熱是不可行的。在加濕問題上還有一個應(yīng)注意的問題就是空調(diào)器內(nèi)空氣流動帶水的問題、福州同盛凈化彩鋼板有限公司。

凈化室施工有那些守則：1．所有人員必須從規(guī)定的出入口進出，必須換上軟底球鞋方可進入凈化區(qū)，并且不得將軟底球鞋穿出凈化區(qū)外。4．進入凈化區(qū)前施工用機具、工具、材料及附件等必須在室外清潔并擦拭干凈，不得有油、銹及灰塵等，并且只能從規(guī)定的出入口進出。除施工人員及管理人員外閑雜人等一律不得進入凈化區(qū)；2．非需用的物品，如食物、飲料、、打火機等禁止帶入凈化區(qū)；3．進出入人員應(yīng)著裝干凈的工作服；4．進入凈化區(qū)前施工用機具、工具、材料及附件等必須在室外清潔并擦拭干凈，不得有油、銹及灰塵等，并且只能從規(guī)定的出入口進出。梯腳、施工機具底腳必須有橡膠軟底；