真空鍍膜加工是利用化學氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。

裝飾真空鍍膜設(shè)備是蒸發(fā)式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。

　真空鍍膜是真空應用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學方法。在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。在真空條件下成膜有很多優(yōu)點：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學反應（如氧化等）。

真空鍍膜技術(shù)的應用時較早的。真空鍍膜技術(shù)在電子方面開始是用來制造電阻和電容元件，之后隨著半導體技術(shù)在電機學領(lǐng)域中的應用，又使這一技術(shù)成為晶體管制造和集成電路生產(chǎn)的必要工藝手段。近年來，隨著集成路向大規(guī)模和超大規(guī)模集成方向發(fā)展，從而又對真空鍍膜技術(shù)提出了新的要求。因而在電機學領(lǐng)域中又產(chǎn)生了一個新的分支一薄膜微電子學。真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。在進入鍍膜室之前，工件須在電鍍前仔細清洗。

真空鍍膜設(shè)備普遍應用于工業(yè)生產(chǎn)，無論是小產(chǎn)品還是大產(chǎn)品、金屬制品還是塑膠制品、亦或者陶瓷、芯片、電路板、玻璃等產(chǎn)品。

真空鍍膜是一種由物理方法造成塑料薄膜原材料的技術(shù)性，在真空泵房間內(nèi)原材料的分子從加溫源混凝土離析出去打進被鍍物件的表層上。后拓寬到別的作用塑料薄膜，裝飾設(shè)計鍍膜和原材料表層改性材料等。真空鍍膜有三種方式，即揮發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和等離子噴涂。整體而言，真空鍍膜的關(guān)鍵作用包含授予被鍍件表層高寬比金屬質(zhì)感和鏡面玻璃實際效果，在塑料薄膜原材料上使膜層具備優(yōu)異的隔絕特性，出示出色的磁屏蔽材料和導電性實際效果。